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Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器
Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器
旨在使用由晶體石英制成的圓形雙折射效應(yīng)將光束偏振平面嚴格旋轉(zhuǎn)到合適的角度,。
產(chǎn)品介紹
?旨在通過圓形雙折射效應(yīng)將光束偏振平面嚴格旋轉(zhuǎn)到合適的角度
?由晶體石英制成
與波片相比,旋轉(zhuǎn)器具有固有優(yōu)勢,,與繞其自身光軸的旋轉(zhuǎn)無關(guān),。它不需要調(diào)整,只需垂直于入射輻射安裝即可,。偏振平面旋轉(zhuǎn)器通常用于特定波長,。它僅略微取決于環(huán)境溫度。
產(chǎn)品型號
型號 | 中心波長 | 偏振平面的旋轉(zhuǎn)角度 | AR鍍膜范圍 | |
470-4044 | 400 nm | 45° | 380-420 nm | |
470-4049 | 400 nm | 90° | 380-420 nm | |
470-4254 | 257 nm | 45° | 250-265 nm | |
470-4259 | 257 nm | 90° | 250-265 nm | |
470-4264 | 266 nm | 45° | 257-275 nm | |
470-4269 | 266 nm | 90° | 257-275 nm | |
470-4344 | 343 nm | 45° | 333-353 nm | |
470-4349 | 343 nm | 90° | 333-353 nm | |
470-4514 | 515 nm | 45° | 500-530 nm | |
470-4519 | 515 nm | 90° | 500-530 nm | |
470-4784 | 780 nm | 45° | 740-820 nm | |
470-4789 | 780 nm | 90° | 740-820 nm | |
470-4804 | 800 nm | 45° | 760-840 nm | |
470-4809 | 800 nm | 90° | 760-840 nm | |
470-4904 | 1030 nm | 45° | 1000-1060 nm | |
470-4909 | 1030 nm | 90° | 1000-1060 nm | |
材料 | 單晶石英 | |||
光軸 | 垂直于旋轉(zhuǎn)器的面S1,,S2 | |||
通光孔徑 | ?17mm | |||
環(huán)安裝外徑,,D | 25.4mm+ 0.0 / -0.2mm | |||
表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) | |||
波前畸變 | λ/ 10 @ 633nm | |||
平行性 | <10弧秒 | |||
增透膜 | R<0.5% | |||
激光損傷閾值 | 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光,,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),,醫(yī)學,,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用,。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,,光機械,,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識,。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,,BBO,,KDP,DKDP,,KTP,,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備,。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,,S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,,可在科學,工業(yè),,醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應(yīng)用中使用,,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7,,UVFS,,Infrasil,,Suprasil,CaF2以及DKDP,,KDP,,LBO,BBO,,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,,球面,,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證,。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。
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