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Eksma 飛秒級線性偏振激光束的可變衰減器
該可變衰減器/分束器由特殊設計的光機適配器和精密的光機支架840-0197組成,。適配器中裝有兩個薄膜布魯斯特型偏振片，它們反射s偏振光同時透射p偏振光,。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中,。

Eksma 飛秒級線性偏振激光束的可變衰減器

990-0070

Eksma 飛秒級線性偏振激光束的可變衰減器

將激光束分為兩個平行光束，它們的強度比可手動調(diào)節(jié),，動態(tài)范圍大,，透射光束偏差可忽略不計，光學損傷閾值高,。

產(chǎn)品介紹

?將激光束分為兩束可手動調(diào)節(jié)強度比的平行束

?大動態(tài)范圍

?可以忽略的透射光束偏差

?高光學損傷閾值

?S -Pol衰減范圍?0.25％-99.0％P-Pol衰減范圍?0.5％-95.0％

該可變衰減器/分束器由特殊設計的光機適配器和精密的光機支架840-0197組成,。適配器中裝有兩個薄膜布魯斯特型偏振片，它們反射s偏振光同時透射p偏振光,。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中,。

可以通過旋轉波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數(shù),?？梢栽诤軐挼膭討B(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°,，并獲得較大的偏振對比度。

產(chǎn)品型號

飛秒激光脈沖

型號	波長	激光損傷閾值
990-0070-343	343 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-400	400 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-400B	390-410 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-515B	505-525 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-515	515 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-800	800 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-800B	780-820 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-1030	1030 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-1030B	1010-1050	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

大功率激光應用

型號	波長	激光損傷閾值
990-0070-266H	266 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-343H	343 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-400H	400 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-400HB	390-410 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-515H	515 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-515HB	505-525	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-800H	800 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-800HB	780-820 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-1030H	1030 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0070-1030HB	1010-1050 nmn	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

孔徑	17 mm
損害閾值大功率激光應用：	> 10 mJ / cm2,，在800 nm處有50 fs脈沖,，典型值 > 100 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖,，典型
時間色散	對于100 fs Ti：藍寶石激光脈沖,，t<4 fs
偏振對比（一個偏振片之后）	>1:200
偏振對比（二個偏振片之后）	>1:500

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。我們的激光組件可在科學,，工業(yè)，醫(yī)學,，美學,，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體,，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS,，Infrasil，Suprasil,，CaF2以及DKDP,，KDP，LBO，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

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