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Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡760-840 NM-2
薄透鏡,，在760-840 nm范圍內具有抗反射鍍膜,。透鏡可以提供電子束（+ AR）或IBS（+ AR800HT）鍍膜。

Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡760-840 NM-2

薄透鏡,，在760-840 nm范圍內具有抗反射鍍膜。透鏡可以提供電子束（+ AR）或IBS（+ AR800HT）鍍膜,。

產(chǎn)品介紹

?增透膜AR / AR @ 760-840 nm

?非常薄的厚度：邊緣厚度在0.5到1.9mm之間變化

?中心厚度從1到3mm不等

?平凸或平凹類型

?未鍍膜,，BBAR鍍膜@ 700-900 nm或UBBAR鍍膜@ 350-900 nm

EKSMA OPTICS推出增透膜，可在760-840 nm波長范圍內操作,。低于給定值的透鏡可確保低群延遲色散,，是飛秒Ti：Sapphire激光脈沖應用的理想選擇。

產(chǎn)品型號

平凸透鏡（?25.4 mm）

型號	材料	類型	直徑	CT	ET	焦距@ 800NM	反射
110-1205ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	4.9 mm	1.0 mm	50 mm	R<0.5%
110-1205ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	4.9 mm	1.0 mm	50 mm	R<0.1%
110-1209ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	3.0 mm	0.5 mm	75 mm	R<0.5%
110-1209ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	3.0 mm	0.5 mm	75 mm	R<0.1%
110-1211ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.5 mm	0.7 mm	100 mm	R<0.5%
110-1211ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.5 mm	0.7 mm	100 mm	R<0.1%
110-1216ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	0.6 mm	125 mm	R<0.5%
110-1216ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	0.6 mm	125 mm	R<0.1%
110-1217ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	0.8 mm	150 mm	R<0.5%
110-1217ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	0.8 mm	150 mm	R<0.1%
110-1219ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.1 mm	200 mm	R<0.5%
110-1219ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.1 mm	200 mm	R<0.1%
110-1223ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.4 mm	300 mm	R<0.5%
110-1223ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.4 mm	300 mm	R<0.1%
110-1225ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.5 mm	350 mm	R<0.5%
110-1225ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.5 mm	350 mm	R<0.1%
110-1227ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	400 mm	R<0.5%
110-1227ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	400 mm	R<0.1%
110-1231ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	450 mm	R<0.5%
110-1231ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	450 mm	R<0.1%
110-1233ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	500 mm	R<0.5%
110-1233ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	500 mm	R<0.1%
110-1245ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.5 mm	1.3 mm	1000 mm	R<0.5%
110-1245ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.5 mm	1.3 mm	1000 mm	R<0.1%
110-1255ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.4 mm	1.3 mm	1500 mm	R<0.5%
110-1255ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.4 mm	1.3 mm	1500 mm	R<0.1%
110-1265ET+AR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.4 mm	1.3 mm	2000 mm	R<0.5%
110-1265ET+AR800HT	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.4 mm	1.3 mm	2000 mm	R<0.1%

材料	UV FS
表面質量	40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
通光孔徑	90% of the diameter
直徑公差	+0.00, -0.12 mm
厚度公差	±0.2 mm
表面不規(guī)則	λ/8 @ 633 nm
同心度	3 arcmin
近軸焦距	±2% @ 800 nm

技術	電子束多層電介質
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A,。不溶于實驗室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
損壞閾值	100 mJ / cm2,，50 fsec脈沖，典型800 nm
鍍膜表面平整度	通光孔徑下633 nm處的λ/ 10
入射角	0度

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。我們的激光組件可在科學，工業(yè),，醫(yī)學,，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體,，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內,，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學,，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS，Infrasil,，Suprasil,，CaF2以及DKDP，KDP,，LBO,，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是,，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。我們的激光組件可在科學，工業(yè),，醫(yī)學,，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體,，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作,，可在科學,，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,，軍事和航空航天市場,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

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