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Eksma ND：YAG激光脈沖的電動(dòng)可變衰減器
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,，該偏振片反射s偏振光,，同時(shí)透射p偏振光，并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學(xué)接觸）中,。半波片直徑25.4毫米（用于飛秒應(yīng)用）或零級(jí)空氣間隔半波片（用于高功率應(yīng)用）,，其放置在旋轉(zhuǎn)的偏振片支架840-0190-01中，并放置在入射的線性偏振激光束中,。

Eksma 飛秒級(jí)和ND：YAG激光脈沖的電動(dòng)可變衰減器990-0072M

Eksma ND：YAG激光脈沖的電動(dòng)可變衰減器

具有?22 mm通光孔徑的電動(dòng)可變衰減器,，由薄膜偏振片，半波片和光機(jī)械組成,，易于設(shè)置,。波片的電動(dòng)旋轉(zhuǎn)允許連續(xù)改變輸出光束的強(qiáng)度比。

產(chǎn)品介紹

?將激光束分為兩束手動(dòng)調(diào)節(jié)的強(qiáng)度比,，以68°角分開

?大動(dòng)態(tài)范圍

?透射光束偏移?1毫米

?高光學(xué)損傷閾值

該可變衰減器/分束器由直徑為50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,，該偏振片反射s偏振光,，同時(shí)透射p偏振光,，并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學(xué)接觸）中,。半波片直徑25.4毫米（用于飛秒應(yīng)用）或零級(jí)空氣間隔半波片（用于高功率應(yīng)用），其放置在旋轉(zhuǎn)的偏振片支架840-0190-01中,，并放置在入射的線性偏振激光束中,。

可以通過旋轉(zhuǎn)波片來連續(xù)改變那兩個(gè)分離且不同的偏振光束的強(qiáng)度比，而無需改變其他光束參數(shù),?？梢栽诤軐挼膭?dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比,。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,，或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振,。

840-0056-12運(yùn)動(dòng)學(xué)安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調(diào)整為±4.5°，并獲得較大的消光對(duì)比度,。支架位于桿,，桿支架和可移動(dòng)基座820-0090上。

距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內(nèi)調(diào)節(jié),?？梢蕴峁┢渌叨茸鳛槎ㄖ疲詫?biāo)準(zhǔn)桿和桿架更改為更高的高度,。

Eksma ND：YAG激光脈沖的電動(dòng)可變衰減器

產(chǎn)品型號(hào)

飛秒激光脈沖

型號(hào)	波長(zhǎng)	損壞閾值	配置
990-0072-343M	343 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-343M+CP	343 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-400M	400 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-400M+CP	400 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-515M	515 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-515M+CP	515 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-800M	800 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-800M+CP	800 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-800BM	780-820 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-800BM+CP	780-820 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-1030M	1030 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-1030M+CP	1030 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-1030BM	1010-1050 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-1030BM+CP	1010-1050 nm	>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply

大功率激光應(yīng)用

型號(hào)	波長(zhǎng)	損壞閾值	配置
990-0072-266HM	266 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-266HM+CP	266 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-343HM	343 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-343HM+CP	343 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-400HM	400 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-400HM+CP	400 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-515HM	515 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-515HM+CP	515 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-800HM	800 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-800HM+CP	800 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-800HBM	780-820 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-800HBM+CP	780-820 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-1030HM	1030 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-1030HM+CP	1030 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-1030HBM	1010-1050 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-1030HBM+CP	1010-1050 nm	>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply

旋轉(zhuǎn)分辨率：全步模式

在1/8步進(jìn)模式下

0.6 arcmin
4.5 arcsec

較高轉(zhuǎn)速

50 deg/s

適用于Nd：YAG激光應(yīng)用

通光孔徑	22 mm
損害閾值	>5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical
偏振比	>1:200

飛秒應(yīng)用

通光孔徑	22 mm
損害閾值大功率激光應(yīng)用：	>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical >100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
時(shí)間分散	t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses
偏振比	>1:200

推薦設(shè)置

控制器	980-1045
電源	PS12-2.5-4

上述控制器和電源已包含在衰減器套件中,，其代碼結(jié)尾為“ + CP"。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè),，醫(yī)學(xué),，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí),。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證,。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量,。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證,。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力,。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè),，醫(yī)學(xué),，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機(jī)械,，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證,。通過嚴(yán)格的檢查程序,，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量,。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證,。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力,。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

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