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Eksma 高透射率的雙反射鏡
  • Eksma 高透射率的雙反射鏡

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更新時間:2025-01-07 21:00:07

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Eksma 高透射率的雙反射鏡
IBS鍍膜二向色鏡專為高功率激光器而設計。透射波長的透射率超過98%,。

Eksma 高透射率的雙反射鏡

IBS鍍膜二向色鏡專為高功率激光器而設計。透射波長的透射率超過98%,。

?用于高功率激光器的IBS鍍膜

?激光損傷閾值> 10 J / cm2,,脈沖為8納秒,典型值為1064 nm

?背面防反射鍍膜

?透射波長T> 98%

Eksma 高透射率的雙反射鏡

產品型號

型號

材料

反射波長

透射波長

AOI

直徑

厚度

041-6800HT

UV FS

R>99.5%@1064nm

T>98%@808nm

? 12.7 mm

3 mm

042-6800HT

UV FS

R>99.5%@1064nm

T>98%@808nm

? 25.4 mm

6 mm

041-6805HT

UV FS

R>99.5%@1064nm

T>98%@808nm

45°

? 12.7 mm

3 mm

042-6805HT

UV FS

R>99.5%@1064nm

T>98%@808nm

45°

? 25.4 mm

6 mm

041-6200HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

? 12.7 mm

3 mm

042-6200HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

? 25.4 mm

6 mm

041-6202HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

22.5°

? 12.7 mm

3 mm

042-6202HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

22.5°

? 25.4 mm

6 mm

041-6205HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

45°

? 12.7 mm

3 mm

042-6205HT

UV FS

R>99.5%@1028-1080nm

T>98%@965-982nm

45°

? 25.4 mm

6 mm

基材

材料

UV級熔融石英

S1表面平整度

λ/ 10(在633 nm下)

S1表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

S2表面平整度

λ/ 10(在633 nm下)

S2表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

直徑公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25mm

平行性

30角秒

倒角

在45°典型值為0.3mm

鍍膜

技術

離子束濺射(IBS)

激光損傷閾值

>10 J/cm2, 8 ns pulse, 1064 nm

背面防反射鍍膜

R<0.1% at AOI=0°
R<0.25% at AOI=45°

EKSMA OPTICS是激光,,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),,醫(yī)學,,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,,光機械,,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證,。 通過嚴格的檢查程序,,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量,。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證,。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力,。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,,KDP,,DKDP,KTP,,AgGaSe2,,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備,。 在我們的鏡頭生產工廠中,,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。


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