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Eksma 可變衰減器990-0073
可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運(yùn)動(dòng)學(xué)支架制成,，配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片,。

Eksma 可變衰減器990-0073

適用于飛秒和ND：YAG激光脈沖的可變衰減器990-0073

Eksma 可變衰減器990-0073

可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運(yùn)動(dòng)學(xué)支架制成，配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片,。

產(chǎn)品介紹

?將激光束分為兩束手動(dòng)調(diào)節(jié)的強(qiáng)度比,，以68°角分開

?大動(dòng)態(tài)范圍

?透射光束偏移?1.4毫米

?高光學(xué)損傷閾值

該可變衰減器/分束器由直徑76.2 mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光,，同時(shí)透射p偏振光,，并裝入分束器安裝座840-0056-13和石英零階（光學(xué)接觸）。直徑為40 mm的半波片（用于飛秒脈沖）,，零階空間隔的半波片（用于高功率應(yīng)用）或多階半波片（用于Nd：YAG激光脈沖）容納在旋轉(zhuǎn)的偏振片支架840-0180-A2中,，放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉(zhuǎn)波片來連續(xù)改變那兩個(gè)分離且不同的偏振光束的強(qiáng)度比，而無需改變其他光束參數(shù),?？梢栽诤軐挼膭?dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,，或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。

840-0056-13運(yùn)動(dòng)安裝座可將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調(diào)整為±4.5°,，并獲得較大的消光對(duì)比度,。支架位于桿，桿支架和可移動(dòng)基座820-0090上,。

距桌面的光軸高度可以在92-98 mm的范圍內(nèi)調(diào)節(jié),。可以提供其他高度作為定制,，以將標(biāo)準(zhǔn)桿和桿架更改為更高的高度,。

產(chǎn)品型號(hào)

適用于Nd：YAG激光應(yīng)用

代碼	波長	激光損傷閾值
990-0073-355	355 nm	5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm
990-0073-532	532 nm	5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm
990-0073-1064	1064 nm	5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

飛秒激光脈沖

代碼	波長	激光損傷閾值
990-0073-266	266 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-343	343 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-400	400 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-515	515 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-800	800 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-800B	780-820 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-1030	1030 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-1030B	1010-1050 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

適用于高功率飛秒應(yīng)用

代碼	波長	激光損傷閾值
990-0073-266H	266 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-343H	343 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-400H	400 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-515H	515 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-800H	800 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-800HB	780-820 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-1030H	1030 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-1030HB	1010-1050 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

通光孔徑	36 mm
損害閾值
對(duì)于Nd：YAG應(yīng)用	>5 J/cm2, 10 ns at, 10 Hz 1064 nm, typical
飛秒應(yīng)用	>10 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical
用于大功率應(yīng)用	>100 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical
偏振比	>1:200
透射光束偏移	~1.4 mm
重量	0.6 kg

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué),，工業(yè)，醫(yī)學(xué),，美學(xué),，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機(jī)械,，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證,。通過嚴(yán)格的檢查程序,，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量,。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證,。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力,。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

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