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Eksma 保護金反射鏡-3
保護金鏡，在900 nm處平均反射率&amp;gt; 98％-紅外,。這些鏡子在紅外線中具有較高的反射率,。

Eksma 保護金反射鏡-3

保護金鏡，在900 nm處平均反射率> 98％-紅外,。這些鏡子在紅外線中具有較高的反射率,。

Eksma 保護金反射鏡-3

產(chǎn)品介紹

?LIDT-在1064 nm，50 Hz,，11納秒脈沖下為1.0 J / cm2 *

?900 nm的平均反射率> 98％–紅外

?提供BK7,，UVFS,，Zerodur®基材

?提供圓形，方形,，平面或球面鏡

?OEM功能-請聯(lián)系以獲得*

?可應要求提供測試樣品

?選裝裸金鍍膜鏡

保護金（Au）鏡在紅外線中的反射率較高,。增強的金屬鍍膜可在整個工作帶寬內(nèi)提供更大的反射。

*激光誘導損壞閾值結果是根據(jù)ISO 21254-2：1000對1測試程序測得的,。

要以較優(yōu)惠的價格獲得更多保護金鏡,，請檢查我們的出售商品-非標準金屬鏡。

產(chǎn)品型號

保護金球面平凹鏡

直徑：50.8 + 0.00 / -0.13mm邊緣厚度（ET）：10.0±0.2mm

型號	材料	類型	尺寸	厚度	半徑
095-0130R-100	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-100 mm
095-0130R-150	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-150 mm
095-0130R-200	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-200 mm
095-0130R-250	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-250 mm
095-0130R-300	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-300 mm
095-0130R-400	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-400 mm
095-0130R-500	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-500 mm
095-0130R-600	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-600 mm
095-0130R-800	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-800 mm
095-0130R-1000	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-1000 mm
095-0130R-1500	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-1500 mm
095-0130R-2000	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-2000 mm
095-0130R-2500	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-2500 mm
095-0130R-3000	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-3000 mm
095-0130R-4000	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-4000 mm
095-0130R-5000	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-5000 mm
095-0130R-6000	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-6000 mm
095-0130R-8000	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-8000 mm
095-0130R-10000	BK7	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-10000 mm
095-3130R-100	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-100 mm
095-3130R-150	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-150 mm
095-3130R-200	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-200 mm
095-3130R-250	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-250 mm
095-3130R-300	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-300 mm
095-3130R-400	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-400 mm
095-3130R-500	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-500 mm
095-3130R-600	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-600 mm
095-3130R-800	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-800 mm
095-3130R-1000	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-1000 mm
095-3130R-1500	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-1500 mm
095-3130R-2000	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-2000 mm
095-3130R-3000	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-2500 mm
095-3130R-4000	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-4000 mm
095-3130R-5000	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-5000 mm
095-3130R-6000	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-6000 mm
095-3130R-8000	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-8000 mm
095-3130R-10000	UVFS	pl/cv	? 50.8 mm	10 mm	-10000 mm

材料	BK7, UVFS
S1表面平整度*	λ/10@633 nm
S1表面質(zhì)量*	40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
S2表面質(zhì)量	簡單拋光
通光孔徑	>90% of the diameter
直徑公差	0.00/-0.13 mm
厚度公差	±0.2 mm
激光誘導的損傷閾值@ 1064 nm **	1.0 J/cm2 at 1064 nm, 50 Hz, 11 nsec pulses

S1 *球面鏡的表面是彎曲的

**激光誘導的損傷閾值結果是由LIDARIS根據(jù)ISO 21254-2：1000對1測試程序測量的,。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學,，工業(yè)，醫(yī)學,，美學,，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。通過嚴格的檢查程序,，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證,。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證,。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學,，工業(yè),，醫(yī)學，美學,，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體,，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證,。通過嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量,。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證,。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力,。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO，KDP,，DKDP,，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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