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Layertec Nd：YAG和Nd：YVO4激光器
摻釹晶體顯示出不同波長(zhǎng)的激光躍遷,。表1概述了常見的Nd摻雜材料Nd：YAG和Nd：YVO4的激光波長(zhǎng)

Layertec Nd：YAG和Nd：YVO4激光器

Nd：YAG或Nd：YVO4弱激光線的組件

摻釹晶體顯示出不同波長(zhǎng)的激光躍遷,。表1概述了常見的Nd摻雜材料Nd：YAG和Nd：YVO4的激光波長(zhǎng)

Nd:YAG		Nd:YVO4
Laser line	Second harmonic	Laser lines	Second harmonic

946 nm	473 nm	915 nm	457 nm
1064 nm	532 nm	1064 nm	532 nm
1123 nm	561 nm
1319 nm	659 nm	1340 nm	670 nm

表1：Nd：YAG和Nd：YVO4的二次諧波的激光線和相應(yīng)波長(zhǎng)

可以看出,，可以從這些晶體獲得VIS和NIR中的各種激光線,。此現(xiàn)象用于構(gòu)建緊湊的二極管泵浦的固態(tài)激光器,，該激光器具有多種波長(zhǎng)，可用于測(cè)量應(yīng)用以及投影系統(tǒng)（RGB激光器）,。兩種材料中*的激光躍遷是1064nm線,。其他波長(zhǎng)的有效激光輻射只有通過抑制這條線才能實(shí)現(xiàn)。LAYERTEC為此應(yīng)用提供了各種激光鏡,。

緊湊型激光器設(shè)計(jì)還包括泵浦二極管（808nm）和用于產(chǎn)生二次諧波的單元,。這就是為什么為什么Nd：YAG或Nd：YVO4波長(zhǎng)為1064nm的涂層大部分顯示出幾個(gè)具有高透射率和高反射率的光譜區(qū)域。在下文中，我們給出了這種涂層的一些例子,。所有涂層均根據(jù)客戶規(guī)格進(jìn)行設(shè)計(jì),，因?yàn)橐?guī)格取決于激光設(shè)計(jì)。這些頁面上的所有示例均適用于Nd：YAG波長(zhǎng),。Nd：YVO4的涂層也可以設(shè)計(jì)和生產(chǎn),。

圖1：雙波長(zhǎng)反射鏡在弱激光線及其二次諧波的反射光譜中具有高透射率，對(duì)于泵浦波長(zhǎng)和*激光線：

HR（0°,，473nm）> 99.85％+ HR（0°,，946nm）> 99.95％+ R（0°，808nm）<2％+ R（0°,，1064nm）<5％

圖2：對(duì)于泵浦波長(zhǎng),，具有高透射率的二向色鏡的反射光譜也抑制了1064nm線：

HR（0°，1123nm）> 99.9％+ R（0°,，561nm）<2％+ R（0°,，808nm）<10％+ R（0°，1064nm）<50％

圖3：對(duì)于泵浦波長(zhǎng)和二次諧波具有高透射率的薄膜偏振片的反射光譜,，這也抑制了1064nm線：

HRs（56°,，1123nm）> 99.9％+ Rp（56°，1123nm）<50％+ Rs,，p（56°，561 + 808nm）<10％+ Rs,，p（56°,，1064nm）<50％

圖4：二向色鏡的反射光譜，對(duì)于NIR波長(zhǎng)具有高反射率,，并且對(duì)于相應(yīng)的二次諧波波長(zhǎng)具有高透射率：

HR（0°,，1064 + 1123 + 1319nm）> 99.9％+ R（0°，532–561 + 659nm）<2％

Nd：YAG和Nd：YVO4激光器的三次諧波分量

Nd：YAG和Nd：YVO4激光的三次諧波在材料加工以及測(cè)量應(yīng)用以及作為光學(xué)參量振蕩器的泵浦源方面越來越重要,。在這些頁面上,，我們介紹了355nm的光學(xué)器件：?jiǎn)尾ㄩL(zhǎng)和多波長(zhǎng)反射鏡，分離器,，薄膜偏振片和抗反射涂層,。所有設(shè)計(jì)均根據(jù)客戶要求進(jìn)行計(jì)算。

圖1：垂直入射的單波長(zhǎng)鏡的反射光譜（a）和轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（b）

圖2：355nm和532nm雙波長(zhǎng)轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（a）和355nm,，532nm和1064nm的三重波長(zhǎng)轉(zhuǎn)向鏡（b）

圖3：二次諧波和地面波長(zhǎng)的三次諧波的分離器反射光譜：

（a）：標(biāo)準(zhǔn)型

（b）：分離器經(jīng)過特別優(yōu)化,，可在1064nm下實(shí)現(xiàn)低反射率

有關(guān)紫外線光譜范圍內(nèi)諧波的隔離器的通用規(guī)格，請(qǐng)參見本網(wǎng)站上的表格,。

請(qǐng)不要猶豫與我們聯(lián)系以獲得其他入射角的隔板或反光鏡,。

圖4：從二次諧波到地面波長(zhǎng)的三次諧波的特殊分離器的反射光譜：

（熒光分離器HRs（45°，355nm）> 95％+ Rp（45°，532nm）<2％+ Rs,，p（45°,，1064nm）<2％

（b）HR（45°，532nm）> 99.8nm + R（45°,，355nm）<5％

熒光分離器在高功率密度下顯示出延長(zhǎng)的使用壽命,。

圖5：355nm薄膜偏振片的反射光譜：HRs（55°，355nm）> 99％+ Rp（55°,，355nm）<5％

可以通過角度調(diào)整來優(yōu)化p偏振光的透射率,。將偏振片傾斜±2°，可使Rp的最小值移至更長(zhǎng)或更短的波長(zhǎng),，這可以顯著提高偏振比,。

圖6：針對(duì)AOI = 0°至30°（a）優(yōu)化的355nm單波長(zhǎng)增透膜和355nm，532nm和1064nm熔融石英上的三波長(zhǎng)增透膜的反射光譜,。

Nd：YAG和Nd：YVO4激光二次諧波的組件

Nd：YAG和Nd：YVO4激光的諧波被廣泛用于材料加工以及測(cè)量應(yīng)用,。此外，Nd：YAG激光器的二次諧波通常用作Ti：Sapphire激光器的泵浦源,。在這些頁面上,，我們介紹532nm的光學(xué)器件：雙波長(zhǎng)鏡，分離器,，薄膜偏振片和非偏振分束器,，以及用于不同配置的緊湊型二極管泵浦激光器的腔光學(xué)器件。所有設(shè)計(jì)均根據(jù)客戶要求進(jìn)行計(jì)算,。

圖1：泵浦波長(zhǎng)（808nm）具有高透射率的雙波長(zhǎng)腔鏡的反射光譜（a）和雙波長(zhǎng)轉(zhuǎn)向鏡（b）

圖2：分離器的反射光譜,，該反射光譜來自地面波長(zhǎng)的二次諧波：

（a）：HR（0°，1064nm）> 99.9％+ R（0°,，532 + 808nm）<3％

（b）：HRs + p（45°,，532nm）> 99.9％+ Rs + p（45°，808 + 1064nm）<2％

圖3：薄膜偏振片（a）和非偏振分束器（b）在532nm處的反射光譜,，Rs = Rp = 50±2％（| Rs-Rp |<3％）

通過改進(jìn)的腔衰蕩設(shè)置,，可以高精度測(cè)量用于p偏振光的薄膜偏振片的透射率。

圖4：二次諧波和地波產(chǎn)生的三次諧波分離器的反射光譜（a）以及355nm和532nm的雙波長(zhǎng)轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（b）

有關(guān)紫外線光譜范圍內(nèi)諧波的隔離器的通用規(guī)格,，請(qǐng)參見本網(wǎng)站上的表格,。請(qǐng)不要猶豫與我們聯(lián)系以獲得其他入射角的隔板或反光鏡。

圖5：1064nm的HR反射鏡的反射光譜,，也是532nm的輸出耦合器：HR（0°,，1064nm）> 99.9％+ R（0°，532nm）= 99％

非線性光學(xué)晶體上的涂層

非線性光學(xué)晶體是頻率轉(zhuǎn)換的關(guān)鍵要素,。 LAYERTEC在KTP和鈮酸鋰等晶體上提供各種涂層,。

圖6：KTP上的雙重抗反射涂層在532nm和1064nm處的反射光譜

Nd：YAG和Nd：YVO4激光的高次諧波組件

Nd：YAG和Nd：YVO4激光的諧波被廣泛用于材料加工以及測(cè)量應(yīng)用。在這些頁面上，我們介紹了用于第四次諧波（266nm）和第五次諧波（213nm）的雙波長(zhǎng)反射鏡和分離器,。所有設(shè)計(jì)均根據(jù)客戶要求進(jìn)行計(jì)算,。

圖1：圖1：266nm和355nm雙波長(zhǎng)轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（a）和長(zhǎng)波諧波和地面波長(zhǎng)的四次諧波的分離器（b）

圖2：從長(zhǎng)波長(zhǎng)諧波和地面波長(zhǎng)（b）測(cè)得的五次諧波轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（a）和五次諧波分離器的反射光譜；CaF2上的氟涂層

Separator type	Centre wavelength	Reflectance at centre wavelength [%]		Reflectance at the corresponding longer Nd:YAG wavelengths [%]
				266nm		355nm		532nm		1064nm
		Rs	Rp	Rs	Rp	Rs	Rp	Rs	Rp	Rs	Rp
3rd harmonic	355nm	> 99.7	> 99					< 5	< 2	< 10	< 2
4th harmonic	266nm	> 99.7	> 99			< 5	< 2	< 10	< 2	< 10	< 2
5th harmonic	213nm	> 97	> 93	< 5	< 2	< 10	< 2	< 10	< 2	< 10	< 2

表1：紫外線諧波分離器的通用規(guī)格

* CaF2上的氟涂層

圖3：二次諧波與第四次諧波分離器的反射光譜：

（a）：HR（0°,，532nm）> 99.5％+ R（0°,，266nm）<10％（背面未鍍膜）

（b）：HR（0°，532nm）> 99.9％+ R（0°,，266nm）<5％（背面未鍍膜）

266nm的組件通常通過電子束蒸發(fā)產(chǎn)生,。這些涂層顯示出很高的損傷閾值，但是在可見光譜范圍內(nèi)的反射率被限制為R> 99.5％（見圖3a）,。關(guān)于用于紫外線的濺射涂層的最新研究結(jié)果表明,，可以生產(chǎn)出在VIS中具有明顯改善的反射率的隔離膜，它們?cè)谧贤饩€下具有相似的特性（見圖3b）,。