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品牌Eksma

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更新時間：2024-04-23 13:47:09瀏覽次數(shù)：1215次

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產品分類品牌分類

光學元件: 反射鏡棱鏡濾光片偏振片擴束鏡窗口片

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產品簡介

價格區(qū)間	面議	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合
組件類別	光學元件

Eksma 可變衰減器990-0073
可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架制成，配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。

詳情介紹

Eksma 可變衰減器990-0073

適用于飛秒和ND：YAG激光脈沖的可變衰減器990-0073

Eksma 可變衰減器990-0073

可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架制成，配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。

產品介紹

?將激光束分為兩束手動調節(jié)的強度比,，以68°角分開

?大動態(tài)范圍

?透射光束偏移?1.4毫米

?高光學損傷閾值

該可變衰減器/分束器由直徑76.2 mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光,，同時透射p偏振光,，并裝入分束器安裝座840-0056-13和石英零階（光學接觸）。直徑為40 mm的半波片（用于飛秒脈沖）,，零階空間隔的半波片（用于高功率應用）或多階半波片（用于Nd：YAG激光脈沖）容納在旋轉的偏振片支架840-0180-A2中,，放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉波片來連續(xù)改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比,，而無需改變其他光束參數(shù),。可以在很寬的動態(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比,?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振,。

840-0056-13運動安裝座可將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調整為±4.5°,，并獲得較大的消光對比度。支架位于桿,，桿支架和可移動基座820-0090上,。

距桌面的光軸高度可以在92-98 mm的范圍內調節(jié)?？梢蕴峁┢渌叨茸鳛槎ㄖ?，以將標準桿和桿架更改為更高的高度。

產品型號

適用于Nd：YAG激光應用

代碼	波長	激光損傷閾值
990-0073-355	355 nm	5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm
990-0073-532	532 nm	5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm
990-0073-1064	1064 nm	5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

飛秒激光脈沖

代碼	波長	激光損傷閾值
990-0073-266	266 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-343	343 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-400	400 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-515	515 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-800	800 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-800B	780-820 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-1030	1030 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-1030B	1010-1050 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

適用于高功率飛秒應用

代碼	波長	激光損傷閾值
990-0073-266H	266 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-343H	343 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-400H	400 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-515H	515 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-800H	800 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-800HB	780-820 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-1030H	1030 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0073-1030HB	1010-1050 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

通光孔徑	36 mm
損害閾值
對于Nd：YAG應用	>5 J/cm2, 10 ns at, 10 Hz 1064 nm, typical
飛秒應用	>10 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical
用于大功率應用	>100 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical
偏振比	>1:200
透射光束偏移	~1.4 mm
重量	0.6 kg

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。我們的激光組件可在科學，工業(yè),，醫(yī)學,，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體,，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。通過嚴格的檢查程序,，質量控制評估以及對新技術的承諾,，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證,。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證,。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。在我們的鏡頭生產工廠中,，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。