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價(jià)格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類別	光學(xué)元件

Eksma FEMTOLINE薄型BBAR透鏡350-900 NM-1

在350-900 nm波長范圍內(nèi)具有寬帶減反射鍍膜的薄透鏡,。

產(chǎn)品介紹

Ø超寬帶抗反射鍍膜的AR / AR @ 350-900 nm

Ø非常薄的厚度：邊緣厚度在0.5到1.9mm之間變化

Ø中心厚度從1到3mm不等

Ø平凸或平凹類型

Ø未鍍膜,，AR鍍膜在760-840 nm或BBAR鍍膜在700-900 nm

Femtoline Thin Ultra BBAR Femtoline Thin Ultra BBAR鍍膜在350-900 nm透鏡上,，適用于寬帶飛秒Ti：Sapphire激光脈沖。所展示的透鏡可確保寬帶飛秒Ti：Sapphire激光脈沖的低群延遲色散,。

產(chǎn)品型號(hào)

平凸透鏡（ø12.7mm）

型號(hào)	材料	類型	直徑	CT	ET	焦距@ 800NM	反射
110-1106ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	2.5 mm	1.0 mm	30 mm	R<1.5%
110-1108ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.8 mm	0.7 mm	40 mm	R<1.5%
110-1109ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.9 mm	1.0 mm	50 mm	R<1.5%
110-1111ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.8 mm	1.2 mm	75 mm	R<1.5%
110-1115ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.5 mm	0.9 mm	100 mm	R<1.5%
110-1117ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.4 mm	1.0 mm	125 mm	R<1.5%
110-1119ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.5 mm	1.2 mm	150 mm	R<1.5%
110-1121ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.2 mm	1.0 mm	175 mm	R<1.5%
110-1123ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.2 mm	1.0 mm	200 mm	R<1.5%
110-1126ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.1 mm	1.0 mm	250 mm	R<1.5%
110-1129ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.1 mm	1.0 mm	300 mm	R<1.5%
110-1133ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.1 mm	1.0 mm	400 mm	R<1.5%
110-1135ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.1 mm	1.0 mm	450 mm	R<1.5%
110-1137ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	12.7 mm	1.1 mm	1.0 mm	500 mm	R<1.5%
Thin Plano-Convex Lenses (ø25.4 mm) 型號(hào)	材料	類型	直徑	CT	ET	焦距@ 800NM	反射
110-1205ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	4.9 mm	1.0 mm	50 mm	R<1.5%
110-1209ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	3.0 mm	0.5 mm	75 mm	R<1.5%
110-1211ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.5 mm	0.7 mm	100 mm	R<1.5%
110-1216ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	0.6 mm	125 mm	R<1.5%
110-1217ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	0.8 mm	150 mm	R<1.5%
110-1219ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.1 mm	200 mm	R<1.5%
110-1223ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.4 mm	300 mm	R<1.5%
110-1225ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.5 mm	350 mm	R<1.5%
110-1227ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	400 mm	R<1.5%
110-1231ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	450 mm	R<1.5%
110-1233ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	2.0 mm	1.6 mm	500 mm	R<1.5%
110-1245ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.5 mm	1.3 mm	1000 mm	R<1.5%
110-1255ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.4 mm	1.3 mm	1500 mm	R<1.5%
110-1265ET+UBBAR	UVFS	pl/cx	25.4 mm	1.4 mm	1.3 mm	2000 mm	R<1.5%

材料	UVFS
表面質(zhì)量	40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
通光孔徑	90% of the diameter
直徑公差	+0.00, -0.12 mm
厚度公差	±0.2 mm
表面不規(guī)則	λ/8 @ 633 nm
同心度	3 arcmin
近軸焦距	±2% @ 800 nm

技術(shù)	電子束多層電介質(zhì)
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A,。不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
損壞閾值	50 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800 nm
鍍膜表面平整度	通光孔徑下633 nm處的λ/ 10
入射角	0度

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè),，醫(yī)學(xué),，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機(jī)械,，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,，研磨和拋光設(shè)備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學(xué)，工業(yè),，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,，軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,，UVFS,，Infrasil,，Suprasil，CaF2以及DKDP,，KDP,，LBO，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件,。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué),，工業(yè)，醫(yī)學(xué),，美學(xué),，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械,，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí),。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,，UVFS,，Infrasil，Suprasil,，CaF2以及DKDP,，KDP，LBO,，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件,。但是,，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。