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價格區(qū)間	面議	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類別	光學元件

Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4

Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡333-353 NM-4

薄透鏡,，具有333-353 nm范圍的防反射鍍膜,。透鏡可以提供電子束（+ AR343）或IBS（+ AR343HT）鍍膜,。

產(chǎn)品介紹

Ø防反射鍍膜的AR / AR @ 333-353 nm

Ø非常薄：邊緣厚度從0.5到1.9mm不等

Ø中心厚度從1到3mm不等

Ø平凸或平凹類型

Ø也可以不加鍍膜或帶有不同的增透膜

Femtoline Thin AR在333-353 nm透鏡上鍍膜,，適用于飛秒Ti：Sapphire激光脈沖的應用,。所展示的透鏡可確保寬帶飛秒Ti：藍寶石激光脈沖的低群延遲色散,。

產(chǎn)品型號

平凹透鏡（ø12.7 mm）

型號	材料	類型	直徑	CT	ET	焦距@ 800NM	反射
112-1104ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	3.5 mm	-20 mm	R<0.5%
112-1104ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	3.5 mm	-20 mm	R<0.2%
112-1106ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	2.5 mm	-30 mm	R<0.5%
112-1106ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	2.5 mm	-30 mm	R<0.2%
112-1108ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	2.1 mm	-40 mm	R<0.5%
112-1108ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	2.1 mm	-40 mm	R<0.2%
112-1109ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.9 mm	-50 mm	R<0.5%
112-1109ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.9 mm	-50 mm	R<0.2%
112-1110ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.7 mm	-60 mm	R<0.5%
112-1110ET+AR800HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.7 mm	-60 mm	R<0.2%
112-1112ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.5 mm	-75 mm	R<0.5%
112-1112ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.5 mm	-75 mm	R<0.2%
112-1113ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.5 mm	-80 mm	R<0.5%
112-1113ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.5 mm	-80 mm	R<0.2%
112-1115ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.4 mm	-100 mm	R<0.5%
112-1115ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.4 mm	-100 mm	R<0.2%
112-1117ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.3 mm	-125 mm	R<0.5%
112-1117ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.3 mm	-125 mm	R<0.2%
112-1119ET+AR343	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.2 mm	-150 mm	R<0.5%
112-1119ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	12.7 mm	1.0 mm	1.2 mm	-150 mm	R<0.2%

平凹透鏡（ø25.4 mm）

型號	材料	類型	直徑	CT	ET	焦距@ 800NM	反射
112-1205ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	5.4 mm	-50 mm	R<0.5%
112-1205ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	5.4 mm	-50 mm	R<0.2%
112-1209ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	4.0 mm	-75 mm	R<0.5%
112-1209ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	4.0 mm	-75 mm	R<0.2%
112-1211ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	3.3 mm	-100 mm	R<0.5%
112-1211ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	3.3 mm	-100 mm	R<0.2%
112-1215ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	3.0 mm	-125 mm	R<0.5%
112-1215ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	3.0 mm	-125 mm	R<0.2%
112-1217ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.7 mm	-150 mm	R<0.5%
112-1217ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.7 mm	-150 mm	R<0.2%
112-1219ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.4 mm	-200 mm	R<0.5%
112-1219ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.4 mm	-200 mm	R<0.2%
112-1221ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.3 mm	-250 mm	R<0.5%
112-1221ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.3 mm	-250 mm	R<0.2%
112-1223ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.1 mm	-300 mm	R<0.5%
112-1223ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	2.1 mm	-300 mm	R<0.2%
112-1233ET+AR343	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	1.9 mm	-500 mm	R<0.5%
112-1233ET+AR343HT	UVFS	pl/cv	25.4 mm	1.5 mm	1.9 mm	-500 mm	R<0.2%

材料					UVFS
表面質(zhì)量					40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
通光孔徑					90% of the diameter
直徑公差					+0.00, -0.12 mm
厚度公差					±0.2 mm
表面不規(guī)則					λ/8 @ 633 nm
同心度					3 arcmin
近軸焦距					±2% @ 800 nm

鍍膜

技術	電子束多層電介質(zhì)
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A,。不溶于實驗室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
損壞閾值	100 mJ / cm2,、50 fsec脈沖，典型343 nm
鍍膜表面平整度	通光孔徑下633 nm處的λ/ 10
入射角	0度

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。我們的激光組件可在科學，工業(yè),，醫(yī)學,，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體,，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學,，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS，Infrasil,，Suprasil,，CaF2以及DKDP，KDP,，LBO,，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是,，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS,，Infrasil,，Suprasil，CaF2以及DKDP,，KDP,，LBO，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

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