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上海攸亦光電科技有限公司
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Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號

品       牌Eksma

廠商性質代理商

所  在  地上海市

更新時間:2024-04-23 11:38:58瀏覽次數(shù):1385次

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價格區(qū)間 面議 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合
組件類別 光學元件
Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器
該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器,,用于偏振片在56°840-0117A或840-0118A和精密光機械支架840-0197,。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56°的S偏振光,同時透射P偏振光,,可透射P偏振光,。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中,。可以通過旋轉波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比,,而不會改變其他光束參數(shù),。

Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

990-0071

Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

將激光束分成兩束,分別由68°的手動可調強度比,,較大的動態(tài)范圍,,可忽略的透射光束偏差組成。

產品介紹

?將激光束分為兩束,,分別由手動調節(jié)強度比的68°角分開

?大動態(tài)范圍

?可以忽略的透射光束偏差

?高光學損傷閾值

?透射光束的衰減范圍:0.5%-95%反射光束的衰減范圍:5%-99.5%

該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器,用于偏振片在56°840-0117A或840-0118A和精密光機械支架840-0197,。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56°的S偏振光,,同時透射P偏振光,可透射P偏振光,。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中,。可以通過旋轉波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比,,而不會改變其他光束參數(shù),。

可以在很寬的動態(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,,或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調整±2°,,并獲得較大的偏振對比度,。

產品型號

飛秒激光脈沖

型號

波長

激光損傷閾值

990-0071-343

343 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-400

400 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-400B

390-410 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-515

515 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-515B

505-525 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-800

800 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-800B

780-820 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-1030

1030 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-1030B

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

大功率激光應用

型號

波長

激光損傷閾值

990-0071-266H

266 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-343H

343 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-400H

400 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-400HB

390-410 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-515H

515 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-515HB

505-525 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-800H

800 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-800HB

780-820 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-1030H

1030 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-1030HB

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

飛秒應用

孔徑

10 mm

損害閾值

大功率激光應用:

> 10 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,,典型值

> 100 mJ / cm2,,在800 nm處有50 fs脈沖,典型

時間色散

對于100 fs Ti:藍寶石激光脈沖,,t<4 fs

偏振對比

>1:200


EKSMA OPTICS是激光,,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,,工業(yè),,醫(yī)學,美學,,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,,激光介質和非線性頻率轉換晶體,,光機械,,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,,研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,,KDP,,DKDP,KTP,,AgGaSe2,,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備,。 在我們的鏡頭生產工廠中,,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,,可在科學,,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,,軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,,Infrasil,,Suprasil,CaF2以及DKDP,,KDP,,LBO,BBO,,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備,。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是,,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。


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