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上海攸亦光電科技有限公司
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Eksma 激光脈沖電動可變衰減器

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品       牌Eksma

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地上海市

更新時間:2024-04-23 11:41:02瀏覽次數(shù):1185次

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組件類別 光學(xué)元件
Eksma 激光脈沖電動可變衰減器
具有ø22 mm透明孔徑的電動可變衰減器,,由薄膜偏振片,,半波片和光機(jī)械組成,易于設(shè)置,。波片的電動旋轉(zhuǎn)允許連續(xù)改變輸出光束的強(qiáng)度比,。

Eksma 飛秒和ND:YAG激光脈沖電動可變衰減器990-0072M

Eksma 激光脈沖電動可變衰減器

具有?22 mm透明孔徑的電動可變衰減器,由薄膜偏振片,,半波片和光機(jī)械組成,,易于設(shè)置。波片的電動旋轉(zhuǎn)允許連續(xù)改變輸出光束的強(qiáng)度比,。

產(chǎn)品介紹

?將激光束分為兩束手動調(diào)節(jié)的強(qiáng)度比,,以68°角分開

?大動態(tài)范圍

?透射光束偏移?1mm

?高光學(xué)損傷閾值

Eksma 激光脈沖電動可變衰減器

該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,,同時透射p偏振光,,并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階(光學(xué)接觸)中。半波片直徑25.4mm(用于飛秒應(yīng)用)或零級空氣間隔半波片(用于高功率應(yīng)用),,其放置在旋轉(zhuǎn)的偏振片支架840-0190-01中,,并放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉(zhuǎn)波片來連續(xù)改變那兩個分離且不同的偏振光束的強(qiáng)度比,,而無需改變其他光束參數(shù),。可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比,??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振,。

840-0056-12運(yùn)動學(xué)安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)調(diào)整為±4.5°,,并獲得較大的消光對比度,。支架位于桿,桿支架和可移動基座820-0090上,。

距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內(nèi)調(diào)節(jié),。可以提供其他高度作為定制,,以將標(biāo)準(zhǔn)桿和桿架更改為更高的高度,。


EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。 我們的激光組件可在科學(xué),,工業(yè),醫(yī)學(xué),,美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,,光機(jī)械,,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),,其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,,研磨和拋光設(shè)備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,,KDP,,DKDP,KTP,,AgGaSe2,,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備,。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),,工業(yè),,醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,,UVFS,Infrasil,,Suprasil,,CaF2以及DKDP,KDP,,LBO,,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件,。但是,,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

產(chǎn)品型號

飛秒激光脈沖

型號

波長

損壞閾值

配置

990-0072-343M

343 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-343M+CP

343 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-400M

400 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-400M+CP

400 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-515M

515 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-515M+CP

515 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800M

800 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800M+CP

800 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800BM

780-820 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800BM+CP

780-820 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030M

1030 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030M+CP

1030 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030BM

1010-1050 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030BM+CP

1010-1050 nm

>10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

大功率激光應(yīng)用

型號

波長

損壞閾值

配置

990-0072-266HM

266 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-266HM+CP

266 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-343HM

343 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-343HM+CP

343 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-400HM

400 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-400HM+CP

400 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-515HM

515 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-515HM+CP

515 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800HM

800 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800HM+CP

800 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800HBM

780-820 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800HBM+CP

780-820 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030HM

1030 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030HM+CP

1030 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030HBM

1010-1050 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030HBM+CP

1010-1050 nm

>100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply


旋轉(zhuǎn)分辨率:全步模式

在1/8步進(jìn)模式下


0.6 arcmin
4.5 arcsec

較高轉(zhuǎn)速

50 deg/s

適用于Nd:YAG激光應(yīng)用

孔徑

22 mm

損害閾值

>5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振對比

>1:200

飛秒應(yīng)用

孔徑

22 mm

損害閾值

大功率激光應(yīng)用:

> 10 mJ / cm2,,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

> 100 mJ / cm2,,在800 nm處有50 fs脈沖,,典型值

時間色散

對于100 fs Ti:藍(lán)寶石激光脈沖,t<4 fs

偏振對比

>1:200

推薦設(shè)置

控制器

980-1045

電源

PS12-2.5-4

上述控制器和電源已包含在衰減器套件中,,其代碼結(jié)尾為“ + CP",。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。 我們的激光組件可在科學(xué),,工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,,光機(jī)械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識,。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,,BBO,,KDP,DKDP,,KTP,,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備,。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,,鏡頭由N-BK7,,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,,超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),,工業(yè),,醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,,UVFS,Infrasil,,Suprasil,,CaF2以及DKDP,KDP,,LBO,,BBO,,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,,BBO,,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。


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