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上海攸亦光電科技有限公司
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Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(矩形)

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌Eksma

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地上海市

更新時(shí)間:2021-03-17 14:12:34瀏覽次數(shù):1059次

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價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類別 光學(xué)元件
Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(矩形)
薄膜偏振片(矩形)將s偏振和p偏振分量分開,。薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代品。

Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(矩形)


Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(矩形)

薄膜偏振片(矩形)將s偏振和p偏振分量分開,。薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代品,。

產(chǎn)品介紹

Ø標(biāo)準(zhǔn)薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 95.0%

Ø高透射薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 99.0%

Ø對(duì)于高消光比的薄膜偏振片,,Tp> 98%,Ts <0.1%

Ø標(biāo)準(zhǔn)和高透射偏振片的消光比> 200:1

Ø消光比高的偏振片的消光比> 1000:1(HE系列)

薄膜偏振片可分離S偏振和P偏振分量,。由于在800 nm,,50 fsec時(shí)達(dá)到100 mJ / cm2的高損傷閾值,薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器的替代產(chǎn)品,。

薄膜偏振片用于高能激光器,。它們可用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍(lán)寶石激光器的基本波長及其諧波或腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小,。典型的水平偏振比Tp / Ts為200:1,。Tp> 99%的薄膜激光偏振片可根據(jù)客戶要求提供。

產(chǎn)品型號(hào)

高消光比,,UV FS,,Tp> 98%,Ts <0.1%的薄膜偏振片

型號(hào)

材料

長度

寬度

厚度

波長

420-1478HE

UVFS

20 mm

15 mm

6.0 mm

1030 nm

420-1578HE

UVFS

30 mm

20 mm

6.0 mm

1030 nm

標(biāo)準(zhǔn)薄膜偏振片,,BK7,,Rs / Tp> 99.5 / 95.0%

型號(hào)

材料

長度

寬度

厚度

波長

420-0274

BK7

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

515 nm

420-0278

BK7

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

1030 nm

420-0286

BK7

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

800 nm

420-0296

BK7

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

780-820 nm

420-0298

BK7

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

1010-1050 nm

標(biāo)準(zhǔn)薄膜偏振片,UV FS,,Rs / Tp> 99.5 / 95.0%

型號(hào)

材料

長度

寬度

厚度

波長

420-1272

UVFS

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

343 nm

420-1274

UVFS

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

515 nm

420-1278

UVFS

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

1030 nm

420-1283

UVFS

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

400 nm

420-1286

UVFS

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

800 nm

420-1296

UVFS

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

780-820 nm

420-1298

UVFS

28.6 mm

14.3 mm

3.0 mm

1010-1050 nm

 

材料

BK7, UV FS

表面質(zhì)量

20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

透射波前畸變

λ/10 @ 633 nm

透射效率

Tp>95%

消光比Tp / Ts

>200:1

激光損傷閾值

>100 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 800 nm typical, 50 Hz

 

EKSMA OPTICS是激光,,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),,工業(yè),,醫(yī)學(xué),美學(xué),,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí),。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,,BBO,,KDP,DKDP,,KTP,,AgGaSe2,,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備,。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,,超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,,可在科學(xué),工業(yè),,醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,,UVFS,,Infrasil,Suprasil,,CaF2以及DKDP,,KDP,LBO,,BBO,,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,,BBO,,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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