Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（矩形）

Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（矩形）

薄膜偏振片（矩形）將s偏振和p偏振分量分開。薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代品,。

產(chǎn)品介紹

Ø標準薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 95.0％

Ø高透射薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 99.0％

Ø對于高消光比的薄膜偏振片,，Tp> 98％，Ts <0.1％

Ø標準和高透射偏振片的消光比> 200：1

Ø消光比高的偏振片的消光比> 1000：1（HE系列）

薄膜偏振片可分離S偏振和P偏振分量,。由于在800 nm,，50 fsec時達到100 mJ / cm2的高損傷閾值，薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器的替代產(chǎn)品,。

薄膜偏振片用于高能激光器,。它們可用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍寶石激光器的基本波長及其諧波或腔內(nèi)Q開關釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小,。典型的水平偏振比Tp / Ts為200：1,。Tp> 99％的薄膜激光偏振片可根據(jù)客戶要求提供。

產(chǎn)品型號

高消光比,，UV FS,，Tp> 98％，Ts <0.1％的薄膜偏振片

標準薄膜偏振片,，BK7,，Rs / Tp> 99.5 / 95.0％

標準薄膜偏振片，UV FS,，Rs / Tp> 99.5 / 95.0％

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,，工業(yè),，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機械,，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS,，Infrasil，Suprasil,，CaF2以及DKDP,，KDP，LBO,，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。