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價(jià)格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類別	光學(xué)元件

Eksma FEMTOLINE 低色散超快反射鏡-3

飛秒應(yīng)用的激光鏡被設(shè)計(jì)為具有較寬的工作波長(zhǎng)范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））。

產(chǎn)品介紹

飛秒應(yīng)用的激光鏡被設(shè)計(jì)為具有較寬的工作波長(zhǎng)范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））,。鍍膜是單層電介質(zhì),，在工作波長(zhǎng)范圍內(nèi)沒(méi)有相移,。

對(duì)于相同的電介質(zhì)鍍膜，對(duì)于S偏振，高反射率反射鏡始終具有更高的反射率,，更寬的工作區(qū)域和更低的脈沖失真,。如果可能，請(qǐng)使用帶有S偏振光束的反射鏡,。

我們的標(biāo)準(zhǔn)反射鏡適用于基本的Ti：Sapphire和Yb：KGW / KYW激光器及其兩倍,，三倍或四倍的頻率。推薦用于在UV區(qū)工作的高功率激光應(yīng)用,。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué),，工業(yè),，醫(yī)學(xué)，美學(xué),，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí),。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學(xué),，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,，軍事和航空航天市場(chǎng),。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS,，Infrasil,，Suprasil，CaF2以及DKDP,，KDP,，LBO，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件,。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

產(chǎn)品型號(hào)

1000-1060 nm

型號(hào)	波長(zhǎng)	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2
031-1030	1000-1060 nm	BK7	ø12.7 x 3 mm	45°	99.5%
031-1030-i0	1000-1060 nm	BK7	ø12.7 x 3 mm	0°	99.7%
031-1030T6	1000-1060 nm	BK7	ø12.7 x 6 mm	45°	99.5%
031-1030T6-i0	1000-1060 nm	BK7	ø12.7 x 6 mm	0°	99.7%
032-1030	1000-1060 nm	BK7	ø25.4 x 6 mm	45°	99.5%
032-1030-i0	1000-1060 nm	BK7	ø25.4 x 6 mm	0°	99.7%
035-1030	1000-1060 nm	BK7	ø50.8 x 8 mm	45°	99.5%
035-1030-i0	1000-1060 nm	BK7	ø50.8 x 8 mm	0°	99.7%
037-1030	1000-1060 nm	BK7	ø76.2 x 12.7 mm	45°	99.5%
037-1030-i0	1000-1060 nm	BK7	ø76.2 x 12.7 mm	0°	99.7%
041-1030	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 3 mm	45°	99.5%
041-1030-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 3 mm	0°	99.7%
041-1030T6	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.5%
041-1030T6-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.7%
041-1030T6HHR	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.9%
041-1030T6HHR-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.9%
042-1030	1000-1060 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.5%
042-1030-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.7%
042-1030HHR	1000-1060 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.9%
042-1030HHR-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.9%
045-1030	1000-1060 nm	UV FS	ø50.8 x 8 mm	45°	99.5%
045-1030-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø50.8 x 8 mm	0°	99.7%
045-1030T12HHR	1000-1060 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	45°	99.9%
045-1030T12HHR-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	0°	99.9%
047-1030	1000-1060 nm	UV FS	ø76.2 x 12.7 mm	45°	99.5%
047-1030-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø76.2 x 12.7 mm	0°	99.7%

1400-1700 nm

型號(hào)	波長(zhǎng)	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2
082-1417	1400-1700 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.0%
082-1417-i0	1400-1700 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.0%

1900-2120 nm

型號(hào)	波長(zhǎng)	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2
082-1921	1900-2120 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.8%
082-1921-i0	1900-2120 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°

基材

材料	UV級(jí)熔融石英或BK7玻璃
S1表面平整度	633 nm時(shí)為λ/ 10
S1表面質(zhì)量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
S2表面質(zhì)量	簡(jiǎn)單拋光
直徑公差	+0.00 mm-0.12 mm
厚度公差	±0.25
楔	<3 min
倒角	在45°典型值為0.3mm

鍍膜

技術(shù)	電子束多層電介質(zhì)或離子束濺射
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A。不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑
通光孔徑	超過(guò)中心直徑的85％
鍍膜	硬電介質(zhì)高反射率R> 99.5％
專為平均偏振而設(shè)計(jì)	R =（Rs + Rp）/ 2
激光損傷閾值	> 100 mJ / cm2,，50 fsec,，50 Hz，800 nm典型
鍍膜表面平整度	透明孔徑下633 nm處的λ/ 10
入射角	0或45±3度

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè),，醫(yī)學(xué),，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機(jī)械,，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,，研磨和拋光設(shè)備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS,，Infrasil,，Suprasil，CaF2以及DKDP,，KDP,，LBO，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件,。但是,，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。