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價格區(qū)間	面議	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類別	光學元件

Eksma FEMTOLINE激光分束器-4

Eksma FEMTOLINE激光分束器-4

Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,，800 nm，515 nm,，400 nm,，343 nm，266 nm,。激光損傷閾值：> 100 mJ / cm2,，50 fsec脈沖，典型值為800 nm,。

分束器將平均偏振激光束分成彼此分開90°的兩束,。

標準基板厚度為3mm。如果您需要更薄的基板,，請從Precision Thin Round Windows中選擇,。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。我們的激光組件可在科學,，工業(yè)，醫(yī)學,，美學,，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內,，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作,，可在科學，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS,，Infrasil，Suprasil,，CaF2以及DKDP,，KDP，LBO,，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設備,，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備,。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證,。

該公司可根據客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,，我們還提供了廣泛的標準目錄產品,，可以快速實現現成的交付,。

產品型號

波長-343 nm

型號	材料	尺寸	波長	反射	透射	偏振	AOI
031-7620A	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	20±3%	80±3%	Average	45°
031-7620P	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	20±3%	80±3%	P-pol	45°
031-7620S	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	20±3%	80±3%	S-pol	45°
031-7630A	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	30±3%	70±3%	Average	45°
031-7630P	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	30±3%	70±3%	P-pol	45°
031-7630S	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	30±3%	70±3%	S-pol	45°
031-7650A	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	50±3%	50±3%	Average	45°
031-7650P	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	50±3%	50±3%	P-pol	45°
031-7650S	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	50±3%	50±3%	S-pol	45°
031-7670A	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	70±3%	30±3%	Average	45°
031-7670P	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	70±3%	30±3%	P-pol	45°
031-7670S	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	70±3%	30±3%	S-pol	45°
031-7680A	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	80±3%	20±3%	Average	45°
031-7680P	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	80±3%	20±3%	P-pol	45°
031-7680S	UVFS	ø12.7 x 3 mm	343 nm	80±3%	20±3%	S-pol	45°
032-7620A	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	20±3%	80±3%	Average	45°
032-7620P	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	20±3%	80±3%	P-pol	45°
032-7620S	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	20±3%	80±3%	S-pol	45°
032-7630A	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	30±3%	70±3%	Average	45°
032-7630P	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	30±3%	70±3%	P-pol	45°
032-7630S	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	30±3%	70±3%	S-pol	45°
032-7650A	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	50±3%	50±3%	Average	45°
032-7650P	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	50±3%	50±3%	P-pol	45°
032-7650S	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	50±3%	50±3%	S-pol	45°
032-7670A	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	70±3%	30±3%	Average	45°
032-7670P	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	70±3%	30±3%	P-pol	45°
032-7670S	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	70±3%	30±3%	S-pol	45°
032-7680A	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	80±3%	20±3%	Average	45°
032-7680P	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	80±3%	20±3%	P-pol	45°
032-7680S	UVFS	ø25.4 x 3 mm	343 nm	80±3%	20±3%	S-pol	45°
035-7620A	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	20±3%	80±3%	Average	45°
035-7620P	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	20±3%	80±3%	P-pol	45°
035-7620S	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	20±3%	80±3%	S-pol	45°
035-7630A	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	30±3%	70±3%	Average	45°
035-7630P	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	30±3%	70±3%	P-pol	45°
035-7630S	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	30±3%	70±3%	S-pol	45°
035-7650A	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	50±3%	50±3%	Average	45°
035-7650P	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	50±3%	50±3%	P-pol	45°
035-7650S	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	50±3%	50±3%	S-pol	45°
035-7670A	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	70±3%	30±3%	Average	45°
035-7670P	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	70±3%	30±3%	P-pol	45°
035-7670S	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	70±3%	30±3%	S-pol	45°
035-7680A	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	80±3%	20±3%	Average	45°
035-7680P	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	80±3%	20±3%	P-pol	45°
035-7680S	UVFS	ø50.8 x 8 mm	343 nm	80±3%	20±3%	S-pol	45°

基材

材料	UV級熔融石英
S1表面平整度	633 nm時為λ/ 10
S1表面質量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
S2表面平整度	633 nm時為λ/ 10
S2表面質量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
直徑公差	+0.00mm-0.12mm
厚度公差	±0.25
平行性	30弧秒
倒角	在45°典型值為0.3mm

鍍膜

技術	電子束多層電介質
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
入射角	45±3°
背面防反射鍍膜	R <0.5％
激光損傷閾值	> 100 mJ / cm2,，50 fsec脈沖,，典型800 nm

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。我們的激光組件可在科學,，工業(yè)，醫(yī)學,，美學,，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。在我們的鏡頭生產工廠中,，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作,，可在科學,，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS，Infrasil,，Suprasil,，CaF2以及DKDP，KDP,，LBO,，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備,。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是,，我們還提供了廣泛的標準目錄產品，可以快速實現現成的交付,。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學,，工業(yè),，醫(yī)學，美學,，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質和非線性頻率轉換晶體,，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作,，可在科學,，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,，軍事和航空航天市場,。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證,。

該公司可根據客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產品,，可以快速實現現成的交付,。

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