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參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌Eksma
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地上海市
更新時(shí)間:2021-03-17 10:12:32瀏覽次數(shù):896次
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組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 |
Eksma FEMTOLINE激光分束器-1
Eksma FEMTOLINE激光分束器-1
Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,,800 nm,,515 nm,400 nm,,343 nm,,266 nm。激光損傷閾值:> 100 mJ / cm2,,50 fsec脈沖,,典型值為800 nm。
分束器將平均偏振激光束分成彼此分開(kāi)90°的兩束,。
標(biāo)準(zhǔn)基板厚度為3mm,。如果您需要更薄的基板,請(qǐng)從Precision Thin Round Windows中選擇,。
EKSMA OPTICS是激光,,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),,工業(yè),,醫(yī)學(xué),美學(xué),,軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體,,光機(jī)械,,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),,其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,,研磨和拋光設(shè)備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,,KDP,,DKDP,KTP,,AgGaSe2,,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備,。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,,可在科學(xué),,工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,,軍事和航空航天市場(chǎng),。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,UVFS,,Infrasil,,Suprasil,CaF2以及DKDP,,KDP,,LBO,BBO,,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備,。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件,。但是,,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。
產(chǎn)品型號(hào)
波長(zhǎng)-1030 nm
型號(hào) | 材料 | 尺寸 | 波長(zhǎng) | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
031-7420A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
031-7420P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
031-7420S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
031-7430A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
031-7430P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
031-7430S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
031-7450A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
031-7450P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
031-7450S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
031-7470A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
031-7470P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
031-7470S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
031-7480A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
031-7480P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
031-7480S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 1030 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
032-7420A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
032-7420P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
032-7420S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
032-7430A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
032-7430P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
032-7430S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
032-7450A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
032-7450P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
032-7450S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
032-7470A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
032-7470P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
032-7470S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
032-7475S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 75±3% | 25±3% | S-pol | 45° |
032-7480A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
032-7480P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
032-7480S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
032-7490A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 90±3% | 10±3% | Average | 45° |
032-7490S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 90±3% | 10±3% | S-pol | 45° |
032-7495A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 1030 nm | 95±3% | 5±3% | Average | 45° |
035-7420A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
035-7420P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
035-7420S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
035-7430A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
035-7430P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
035-7430S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
035-7450A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
035-7450P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
035-7450S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
035-7470A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
035-7470P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
035-7470S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
035-7480A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
035-7480P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
035-7480S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
基材
材料 | UV級(jí)熔融石英 |
S1表面平整度 | 633 nm時(shí)為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
S2表面平整度 | 633 nm時(shí)為λ/ 10 |
S2表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
平行性 | 30弧秒 |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì) |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A,。 不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑 |
通光孔徑 | 超過(guò)中心直徑的85% |
入射角 | 45±3° |
背面防反射鍍膜 | R <0.5% |
激光損傷閾值 | > 100 mJ / cm2,,50 fsec脈沖,典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光,,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。 我們的激光組件可在科學(xué),,工業(yè),,醫(yī)學(xué),,美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體,,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí),。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,,BBO,,KDP,DKDP,,KTP,,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備,。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,,可在科學(xué),,工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,,軍事和航空航天市場(chǎng),。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,UVFS,,Infrasil,,Suprasil,CaF2以及DKDP,,KDP,,LBO,BBO,,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,,球面,,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證,。
該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件,。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。 我們的激光組件可在科學(xué),,工業(yè),醫(yī)學(xué),,美學(xué),,軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體,,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí),。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,,BBO,,KDP,DKDP,,KTP,,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備,。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,,S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),,工業(yè),,醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng),。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,,UVFS,Infrasil,,Suprasil,,CaF2以及DKDP,KDP,,LBO,,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,,BBO,,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設(shè)備,。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證,。
該公司可根據(jù)客戶(hù)的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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