18以下禁止网站免费播放,91最新人妻

價格區(qū)間	面議	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合
組件類別	光學元件

Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 1030 NM

Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 1030 NM

鍍膜在1030±30 nm的Femtoline激光后視鏡具有> 100 mJ / cm2的高激光損傷閾值,，50 fsec脈沖，800 nm典型值和高反射率（R> 99.7％）

產(chǎn)品介紹

Ø在1030±30 nm處鍍膜

Ø激光損傷閾值：> 100 mJ / cm2,，50 fsec脈沖,，典型值為800 nm

Ø由UVFS或BK7制造

Ø提供25.4或50.8mm尺寸

具有高激光損傷閾值的高反射率（R> 99.7％）電介質鍍膜被應用在激光后視鏡上。建議將UVFS基板用于高功率激光應用,。背面可以鍍增透膜,，可根據(jù)要求避免從二表面反射回來。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。我們的激光組件可在科學，工業(yè),，醫(yī)學,，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體,，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學,，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS，Infrasil,，Suprasil,，CaF2以及DKDP，KDP,，LBO，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

產(chǎn)品型號

BK7 Rear Mirrors at 1030 nm

型號	材料	尺寸	波長	基材	半徑
032-1030-i0	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-plano	∞
012-8005	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-50 mm
012-8010	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-100 mm
012-8015	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-150 mm
012-8020	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-200 mm
012-8025	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-250 mm
012-8050	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-500 mm
012-8100	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-1000 mm
012-8200	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-2000 mm
012-8250	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-2500 mm
012-8400	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-4000 mm
012-8500	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-5000 mm
012-9010	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	100 mm
012-9020	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	200 mm
012-9050	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	500 mm
012-9100	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	1000 mm
012-9200	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	2000 mm
012-9400	BK7	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	4000 mm
035-1030-i0	BK7	ø50.8 x 8 mm	1030±30 nm	Plano-plano	∞
015-8005	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-50 mm
015-8010	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-100 mm
015-8015	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-150 mm
015-8020	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-200 mm
015-8025	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-250 mm
015-8050	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-500 mm
015-8100	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-1000 mm
015-8200	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-2000 mm
015-8250	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-2500 mm
015-8400	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-4000 mm
015-8500	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-5000 mm
015-9010	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	100 mm
015-9020	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	200 mm
015-9050	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	500 mm
015-9100	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	1000 mm
015-9200	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	2000 mm
015-9400	BK7	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	4000 mm
UVFS Rear Mirrors at 1030 nm 型號	材料	尺寸	波長	基材	半徑
042-1030-i0	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-plano	∞
022-8005	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-50 mm
022-8010	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-100 mm
022-8015	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave

022-8020	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-200 mm
022-8025	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-250 mm
022-8050	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-500 mm
022-8100	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-1000 mm
022-8200	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-2000 mm
022-8250	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-2500 mm
022-8400	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-4000 mm
022-8500	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-5000 mm
022-9010	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	100 mm
022-9020	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	200 mm
022-9050	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	500 mm
022-9100	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	1000 mm
022-9200	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	2000 mm
022-9400	UVFS	ø25.4 x 6 mm	1030±30 nm	Plano-convex	4000 mm
045-1030-i0	UVFS	ø50.8 x 8 mm	1030±30 nm	Plano-plano	∞
025-8005	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-50 mm
025-8010	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-100 mm
025-8015	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-150 mm
025-8020	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-200 mm
025-8025	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-250 mm
025-8050	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-500 mm
025-8100	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-1000 mm
025-8200	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-2000 mm
025-8250	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-2500 mm
025-8400	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-4000 mm
025-8500	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-concave	-5000 mm
025-9010	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	100 mm
025-9020	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	200 mm
025-9050	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	500 mm
025-9100	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	1000 mm
025-9200	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	2000 mm
025-9400	UVFS	ø50.8 x 10 mm	1030±30 nm	Plano-convex	4000 mm

基材

材料	UV級熔融石英或BK7玻璃
S1表面平整度	633 nm時為λ/ 10
S1表面質量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
S2表面質量	簡單拋光
直徑公差	+0.00mm-0.12mm
厚度公差	±0.25
倒角	在45°典型值為0.3mm

鍍膜

技術	電子束多層電介質
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A,。不溶于實驗室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
入射角	0-8°（正常）
鍍膜	硬電介質高反射率R> 99.8％
激光損傷閾值	> 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖,，典型800 nm

EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學,，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS，Infrasil,，Suprasil,，CaF2以及DKDP，KDP,，LBO,，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是,，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。我們的激光組件可在科學,，工業(yè)，醫(yī)學,，美學,，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS,，Infrasil，Suprasil,，CaF2以及DKDP,，KDP，LBO,，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設備,，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證,。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。我們的激光組件可在科學,，工業(yè)，醫(yī)學,，美學,，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械,，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO，KDP,，DKDP,，KTP，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。