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價格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類別	光學(xué)元件

Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 800 NM

Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 800 NM

鍍膜在800±20 nm的Femtoline激光后視鏡具有> 100 mJ / cm2的高激光損傷閾值，50 fsec脈沖,，800 nm典型值和高反射率（R> 99.7％）

產(chǎn)品介紹

Ø在 800±20 nm處鍍膜

Ø激光損傷閾值：> 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型值為800 nm

Ø由UVFS或BK7制造

Ø提供25.4或50.8mm尺寸

具有高激光損傷閾值的高反射率（R> 99.7％）電介質(zhì)鍍膜被應(yīng)用在激光后視鏡上,。建議將UVFS基板用于高功率激光應(yīng)用。背面可以鍍增透膜,，可根據(jù)要求避免從二表面反射回來,。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué),，工業(yè)，醫(yī)學(xué),，美學(xué),，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識,。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學(xué)，工業(yè),，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,，UVFS,，Infrasil，Suprasil,，CaF2以及DKDP，KDP,，LBO,，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

產(chǎn)品型號

BK7 Rear Mirrors at 800 nm

型號	材料	尺寸	波長	基材	半徑
032-0800-i0	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-plano	∞
062-8005	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-50 mm
062-8010	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-100 mm
062-8015	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-150 mm
062-8020	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-200 mm
062-8025	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-250 mm
062-8050	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-500 mm
062-8100	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-1000 mm
062-8200	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-2000 mm
062-8250	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-2500 mm
062-8400	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-4000 mm
062-8500	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-concave	-5000 mm
062-9010	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-convex	100 mm
062-9020	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-convex	200 mm
062-9050	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-convex	500 mm
062-9100	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-convex	1000 mm
062-9200	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-convex	2000 mm
062-9400	BK7	ø25.4 x 6mm	800±20 nm	Plano-convex	4000 mm
035-0800-i0	BK7	ø50.8 x 8 mm	800±20 nm	Plano-plano	∞
065-8005	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-50 mm
065-8010	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-100 mm
065-8015	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-150 mm
065-8020	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-200 mm
065-8025	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-250 mm
065-8050	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-500 mm
065-8100	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-1000 mm
065-8200	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-2000 mm
065-8250	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-2500 mm
065-8400	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-4000 mm
065-8500	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-5000 mm
065-9010	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	100 mm
065-9020	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	200 mm
065-9050	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	500 mm
065-9100	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	1000 mm
065-9200	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	2000 mm
065-9400	BK7	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	4000 mm
UVFS Rear Mirrors at 800 nm 型號	材料	尺寸	波長	基材	半徑
042-0800-i0	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-plano	∞
082-8005	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-50 mm
082-8010	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-100 mm
082-8015	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-150 mm
082-8020	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-200 mm
082-8025	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-250 mm
082-8050	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-500 mm
082-8100	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-1000 mm
082-8200	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-2000 mm
082-8250	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-2500 mm
082-8400	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-4000 mm
082-8500	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-concave	-5000 mm
082-9010	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-convex	100 mm
082-9020	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-convex	200 mm
082-9050	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-convex	500 mm
082-9100	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-convex	1000 mm
082-9200	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-convex	2000 mm
082-9400	UVFS	ø25.4 x 6 mm	800±20 nm	Plano-convex	4000 mm
045-0800-i0	UVFS	ø50.8 x 8 mm	800±20 nm	Plano-plano	∞
085-8005	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-50 mm
085-8010	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-100 mm
085-8015	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-150 mm
085-8020	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-200 mm
085-8025	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-250 mm
085-8050	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-500 mm
085-8100	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-1000 mm
085-8200	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-2000 mm
085-8250	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-2500 mm
085-8400	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-4000 mm
085-8500	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-concave	-5000 mm
085-9010	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	100 mm
085-9020	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	200 mm
085-9050	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	500 mm
085-9100	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	1000 mm
085-9200	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	2000 mm
085-9400	UVFS	ø50.8 x 10 mm	800±20 nm	Plano-convex	4000 mm

基材

材料	UV級熔融石英或BK7玻璃
S1表面平整度	633 nm時為λ/ 10
S1表面質(zhì)量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
S2表面質(zhì)量	簡單拋光
直徑公差	+0.00mm-0.12mm
厚度公差	±0.25
倒角	在45°典型值為0.3mm

鍍膜

技術(shù)	電子束多層電介質(zhì)
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A,。不溶于實驗室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
入射角	0-8°（正常）
鍍膜	硬電介質(zhì)高反射率R> 99.7％
激光損傷閾值	> 100 mJ / cm2,，50 fsec脈沖，典型800 nm

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè),，醫(yī)學(xué),，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機械,，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,，研磨和拋光設(shè)備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO,，KDP,，DKDP，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué),，工業(yè),，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,，UVFS，Infrasil,，Suprasil,，CaF2以及DKDP，KDP,，LBO,，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件,。但是,，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè),，醫(yī)學(xué),，美學(xué),，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識,。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,，UVFS,，Infrasil，Suprasil,，CaF2以及DKDP,，KDP,，LBO，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件,。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué),，工業(yè)，醫(yī)學(xué),，美學(xué),，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械,，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識,。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO，KDP,，DKDP,，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。