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參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌Eksma
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地上海市
更新時間:2021-03-17 08:42:27瀏覽次數(shù):1215次
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組件類別 | 光學(xué)元件 |
Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM
Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM
高反射率和低群延遲色散,以800 nm為中心的寬區(qū)域內(nèi),,具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜,。
產(chǎn)品介紹
Ø在以800 nm為中心的寬區(qū)域中具有高反射率和低群延遲色散
Ø硬質(zhì)介電體高反射或離子束濺射鍍膜
Ø激光損傷閾值> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,,800 nm典型值
EKSMA Optics提供720-880 nm鍍膜的寬帶低GDD超快激光反射鏡,。這些超快反射鏡設(shè)計(jì)用于Ti:Sapphire激光器的一階諧波。
標(biāo)準(zhǔn)反射鏡具有高反射率(> 99%),,并且為082-7288HHR物品(UV FS,,Ø25.4x 6 mm)定了更高的反射率(> 99.8%)。
EKSMA OPTICS是激光,,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),,醫(yī)學(xué),,美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,,光機(jī)械,,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),,其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
產(chǎn)品型號
BK7
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, %(S+P)/2 |
071-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 3 mm | 45° | 99.0% |
071-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 3 mm | 0° | 99.0% |
071-7288T6 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.0% |
071-7288T6-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.0% |
072-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.0% |
072-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.0% |
074-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø38.1 x 8 mm | 45° | 99.0% |
074-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø38.1 x 8 mm | 0° | 99.0% |
075-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 45° | 99.0% |
075-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 0° | 99.0% |
077-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø76.2 x 12.7 mm | 45° | 99.0% |
077-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø76.2 x 12.7 mm | 0° | 99.0% |
078-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø101.6 x 15 mm | 45° | 99.0% |
078-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø101.6 x 15 mm | 0° | 99.0% |
UVFS
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, %(S+P)/2 |
081-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 45° | 99.0% |
081-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 0° | 99.0% |
081-7288T6 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.0% |
081-7288T6-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.0% |
082-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.0% |
082-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.0% |
082-7288HHR | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% |
082-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% |
084-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø38.1 x 8 mm | 45° | 99.0% |
084-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø38.1 x 8 mm | 0° | 99.0% |
085-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 45° | 99.0% |
085-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 0° | 99.0% |
087-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø76.2 x 12.7 mm | 45° | 99.0% |
087-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø76.2 x 12.7 mm | 0° | 99.0% |
088-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø101.6 x 15 mm | 45° | 99.0% |
088-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø101.6 x 15 mm | 0° | 99.0% |
規(guī)格:
鍍膜 | 硬電介質(zhì)高反射或離子束濺射 |
入射角 | 0或45±3° |
專為平均偏振而設(shè)計(jì) | R =(Rs + Rp)/ 2 |
激光損傷閾值 | > 50 mJ / cm2,,50 fsec,,800 nm典型值 |
基材:
材料 | UV級熔融石英或BK7玻璃 |
S1表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
楔 | <3分鐘 |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
EKSMA OPTICS是激光,,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),,工業(yè),,醫(yī)學(xué),美學(xué),,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,,光機(jī)械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識,。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,,BBO,,KDP,DKDP,,KTP,AgGaSe2,,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,,鏡頭由N-BK7,,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,,超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),,工業(yè),,醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場,。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,,UVFS,,Infrasil,Suprasil,,CaF2以及DKDP,,KDP,LBO,,BBO,,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,,BBO,,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證,。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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