小型化設(shè)計：主機(jī)尺寸為 300mm（寬）×450mm（深）×450mm（高）,，結(jié)構(gòu)緊湊,，占用空間小,，便于在實驗室等空間有限的環(huán)境中使用,。

內(nèi)置隔振機(jī)構(gòu)：采用浮動結(jié)構(gòu)有效抑制振動,，確保光刻過程的精度和穩(wěn)定性，無需額外配備復(fù)雜的隔振臺,，降低了對使用環(huán)境的要求,。

內(nèi)置真空吸油泵：可牢固固定工作臺上的基片或樣品，防止在光刻過程中發(fā)生位移,，保證曝光的準(zhǔn)確性,。

低使用成本：相比大型光刻設(shè)備，能源消耗和維護(hù)成本較低,，且不需要使用冷卻液體和壓縮氣體等額外輔助設(shè)備,，降低了設(shè)備運行的復(fù)雜性和成本。

用戶友好型接口：操作軟件界面簡潔直觀,，易于上手,，方便用戶進(jìn)行操作和參數(shù)設(shè)置。

簡易流程：光刻操作流程簡單,，用戶將設(shè)計好的圖形導(dǎo)入軟件,，選擇相應(yīng)的曝光參數(shù)即可進(jìn)行光刻操作，提高了工作效率,。

支持對準(zhǔn)和曝光條件檢查：對于對準(zhǔn)精度要求較高的光刻工藝,，能夠提供準(zhǔn)確的對準(zhǔn)功能，用戶還可在軟件中檢查曝光條件,，以便及時調(diào)整參數(shù),，保證光刻效果,。

曝光光源：采用 365nm（典型值）的 LED 光源，能量穩(wěn)定性高,，使用壽命長,，可滿足多種光刻膠的曝光需求。

線寬精度：使用不同物鏡可實現(xiàn)不同的最小線寬,，如使用 ×10 物鏡時,，最小線寬可達(dá) 3μm,；使用 ×2 物鏡時,，最小線寬為 15μm。

曝光面積：單次曝光面積因物鏡而異,，使用 ×10 物鏡時,，單次曝光面積為 1mm×0.6mm；使用×2 物鏡時,，單次曝光面積為 5mm×3mm,。最大曝光區(qū)域為 25mm×25mm（手動或自動連接）。

兼容文檔格式：可接受的文檔格式豐富,，包括 dxf,、jpeg、png,、bitmap,、xps 等，方便用戶導(dǎo)入各種設(shè)計圖形,。