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RTD Wafer 無線晶圓測溫系統(tǒng)

RTD Wafer 晶圓測溫系統(tǒng)利用自主研發(fā)的核心技術(shù)將 RTD 傳感器集成到晶圓表面，實(shí)時監(jiān)控和記錄晶圓在制程過程中的溫度變化數(shù)據(jù),，為半導(dǎo)體 制造過程提供一種高效可靠的方式來監(jiān)測和優(yōu)化關(guān)鍵的工藝參數(shù),。我司提 供核心的 DUAL SHIELD 技術(shù)，具有強(qiáng)抗干擾能力,，可實(shí)現(xiàn)在干法刻蝕環(huán) 境中正常工作,，精準(zhǔn)監(jiān)測刻蝕工藝溫度；結(jié)合核心的 TEMP-BLOCK 技術(shù),， 可實(shí)現(xiàn)高溫環(huán)境中,，精準(zhǔn)監(jiān)測制程溫度。

【應(yīng)用范圍】薄膜沉積 PVD  CVD

【產(chǎn)品優(yōu)勢】

1. ±0.05℃高精度測溫監(jiān)測：RTD傳感器能夠提供高精度的溫度讀數(shù),，確保半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵步驟能夠在最佳溫度下進(jìn)行,，從而保證產(chǎn)品質(zhì)量至關(guān)重要。

2. 實(shí)時測溫數(shù)據(jù)獲?。?/strong>通過RTD Wafer,，可以實(shí)時監(jiān)測晶圓在熱處理和刻蝕過程中的溫度變化，實(shí)現(xiàn)即時調(diào)整工藝參數(shù),，優(yōu)化生產(chǎn)效率,。

3. 測溫數(shù)據(jù)分析能力：測量后的數(shù)據(jù)通過軟件分析和優(yōu)化工藝參數(shù)，提高產(chǎn)量和產(chǎn)品質(zhì)量,。

4.支持過程調(diào)整與驗(yàn)證：通過分析在產(chǎn)品工藝條件下收集的溫度數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)調(diào)整蝕刻和其他關(guān)鍵工藝步驟的條件,，以確保最佳性能。

5.全面熱分布區(qū)監(jiān)測：在晶圓上支持多達(dá)81個位置同時進(jìn)行溫度監(jiān)測,，從而獲得全面的熱分布圖,。

【參數(shù)配置】