敞開式HEIDENHAIN直線光柵尺

增量測(cè)量法的磁柵由周期性柵線組成,。通 過(guò)計(jì)算自某點(diǎn)開始的增量數(shù)（測(cè)量步距 數(shù)）獲得位置信息,。由于必須用參考 點(diǎn)確定位置值，因此測(cè)量基準(zhǔn)的光柵尺上 還有一個(gè)參考點(diǎn)刻軌,。在光柵尺上,，由參 考點(diǎn)確定的位置是在一個(gè)信號(hào)周期分 配的。因此,，必須通過(guò)掃描參考點(diǎn)建立絕 對(duì)基準(zhǔn)點(diǎn)或確定上次選擇的原點(diǎn),。

在不理想的情況下，可能需要運(yùn)動(dòng)機(jī)床 測(cè)量范圍的相當(dāng)大部分,。為加快和簡(jiǎn)化 “參考點(diǎn)回零”操作,，許多海德漢尺帶距 離編碼參考點(diǎn)，這些參考點(diǎn)之間彼此相距 數(shù)學(xué)算法確定的距離,。因此只需運(yùn)動(dòng)數(shù)毫 米,，一旦移過(guò)兩個(gè)相鄰參考點(diǎn)后，后續(xù)電 子電路就能找到參考點(diǎn)位置（見下 表）,。距離編碼參考點(diǎn)的光柵尺在型號(hào)后 均帶字母“C”（例如LIF 181C）,。

 敞開式HEIDENHAIN直線光柵尺

光電掃描

海德漢的大多數(shù)光柵尺采用光電掃描原 理。光電掃描在工作中無(wú)接觸,，因此無(wú)磨 損,。光電掃描可以檢測(cè)到非常細(xì)小的光 柵，柵線寬度可僅數(shù)微米,，并能輸出非常 細(xì)小的信號(hào)周期信號(hào),。

測(cè)量基準(zhǔn)的柵距越小，光電掃描的衍射現(xiàn) 象越嚴(yán)重,。海德漢直線光柵尺采用兩種掃 描原理：

• 成像掃描原理用于10 µm至200 µm的柵 距,。

• 干涉掃描原理用于柵距4 µm甚至更小柵 距的光柵。

成像掃描原理

簡(jiǎn)單地說(shuō)成像掃描原理是用透射光生成信 號(hào)：兩個(gè)柵距相同或相近的光柵與掃描掩 膜彼此相對(duì)運(yùn)動(dòng),。掃描掩膜的基體為透明 色,，而作為測(cè)量基準(zhǔn)的光柵材料可為透明 材料也可以為反光材料。

當(dāng)平行光穿過(guò)光柵時(shí)，以特定的間隔形成 明暗的光影區(qū),。在該處設(shè)有柵距相同或相 近的掃描光柵,。當(dāng)兩個(gè)光柵相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí)， 入射光被調(diào)制：在狹縫對(duì)齊時(shí),，光線通 過(guò),。如果一個(gè)光柵的刻線與另一個(gè)光柵的 狹縫對(duì)齊，光線無(wú)法通過(guò),。光電池將這些 光強(qiáng)變化轉(zhuǎn)化成電信號(hào),。

特殊結(jié)構(gòu)的掃描 掩膜將光強(qiáng)調(diào)制為近正弦輸出信號(hào)。光柵 條紋的柵距越小,，掃描掩膜與光柵尺間的 間距越小,，公差越嚴(yán)。對(duì)于成像掃描原理 的光柵尺,，10 μm或更大柵距的光柵尺可 滿足實(shí)用的安裝公差要求,。

 LIF 471，LIF 481 安裝簡(jiǎn)單的增量式直線光柵尺

• 測(cè)量步距達(dá)2 nm

• 自帶回零軌和限位開關(guān)檢測(cè)位置

• 易于安裝,，粘結(jié)固定

• 直線光柵尺和讀數(shù)頭配套使用

• 可提供高真空度版（參見產(chǎn)品信息文檔）