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中圖儀器VT6000高分辨率聚焦顯微鏡以共聚焦技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊,、3D 建模算法等,,能測各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,,從納米到微米級別工件的粗糙度,、平整度、微觀幾何輪廓,、曲率等參數(shù),。
在相同物鏡放大的條件下,共焦顯微鏡所展示的圖像形態(tài)細節(jié)更清晰更微細,,橫向分辨率更高,。如同為微納檢測的利器,共聚焦顯微鏡卻是與白光干涉儀有著諸多不同,,如果用一個字眼來形容,,那么白光干涉儀是“文",而共聚焦顯微鏡是“武",。白光擅長亞納米級超光滑表面的檢測,,追求檢測數(shù)值的精準;而共聚焦擅長微納級粗糙輪廓的檢測,,雖在檢測分辨率上略遜,,但能夠提供色彩斑斕的真彩圖像便于觀察。
產(chǎn)品功能
(1)設(shè)備具備表征微觀形貌的輪廓尺寸及粗糙度測量功能;
(2)設(shè)備具備自動拼接功能,,能夠快速實現(xiàn)大區(qū)域的拼接縫合測量,;
(3)設(shè)備具備一體化操作的測量與分析軟件,預(yù)先設(shè)置好配置參數(shù)再進行測量,,軟件自動統(tǒng)計測量數(shù)據(jù)并提供數(shù)據(jù)報表導出功能,,即可快速實現(xiàn)批量測量功能;
(4)設(shè)備具備調(diào)整位置,、糾正,、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能,;
(5)設(shè)備具備粗糙度分析,、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析,、頻率分析、功能分析等五大分析功能,;
(6)設(shè)備具備一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能,,可實現(xiàn)批量數(shù)據(jù)文件的快速分析功能;
應(yīng)用領(lǐng)域
對各種產(chǎn)品,、部件和材料表面的面形輪廓,、表面缺陷、磨損情況,、腐蝕情況,、平面度、粗糙度,、波紋度,、孔隙間隙、臺階高度,、彎曲變形情況,、加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。
應(yīng)用范例:
VT6000高分辨率聚焦顯微鏡自設(shè)計之初,,便定下了“簡單好用"四字方針的目標,。
1)結(jié)構(gòu)簡單:儀器整體由一臺輕量化的設(shè)備主機和電腦構(gòu)成,控制單元集成在設(shè)備主機之內(nèi),,亦可采用筆記本電腦驅(qū)動,,實現(xiàn)了“拎著走"的便攜式設(shè)計;
2)真彩圖像:配備了真彩相機并提供還原的3D真彩圖像,,對細節(jié)的展現(xiàn)纖毫畢現(xiàn),;
3)操作便捷:采用全電動化設(shè)計,并可無縫銜接位移軸與掃描軸的切換,,圖像視窗和分析視窗同界面的設(shè)計風格,,實現(xiàn)了所見即所得的快速檢測效果,;
4)采用自研的電動鼻輪塔臺,并對軟件防撞設(shè)置與硬件傳感器防撞設(shè)置功能進行了優(yōu)化,,確保共聚焦顯微鏡在使用高倍物鏡僅不到1mm的工作距離時也能應(yīng)對,。
應(yīng)用場景
1、鐳射槽
測量晶圓上激光鐳射槽的深度:半導體后道制造中,,在將晶圓分割成一片片的小芯片前,,需要對晶圓進行橫縱方向的切割,為確保減少切割引發(fā)的崩邊損失,,會先采用激光切割機在晶圓表面燒蝕出U型或W型的引導槽,,在工藝上需要對引導槽的槽型深寬尺寸進行檢測。
2,、光伏
在太陽能電池制作工程中,,柵線的高寬比決定了電池板的遮光損耗及導電能力,直接影響著太陽能電池的性能,。共聚焦顯微鏡可以對柵線進行快速檢測,。此外,太陽能電池制作過程中,,制絨作為關(guān)鍵核心工藝,,金字塔結(jié)構(gòu)的質(zhì)量影像減反射焰光效果,是光電轉(zhuǎn)換效率的重要決定因素,。共聚焦顯微鏡具有納米級別的縱向分辨能力,,能夠?qū)﹄姵匕褰q面這種表面反射率低且形貌復(fù)雜的樣品進行三維形貌重建。
3,、其他
部分技術(shù)指標
型號 | VT6100 | |
行程范圍 | X | 100mm |
Y | 100mm | |
Z | 100mm | |
外形尺寸 | 520*380*600mm | |
儀器重量 | 50kg | |
測量原理 | 共聚焦光學系統(tǒng) | |
顯微物鏡 | 10×;20×;50×;100× | |
視場范圍 | 120×120 μm~1.2×1.2 mm | |
高度測量 | ||
寬度測量 | ||
XY位移平臺 | 負載 | 10kg |
控制方式 | 電動 | |
Z0軸掃描范圍 | 10mm | |
物鏡塔臺 | 5孔電動 | |
光源 | 白光LED |
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