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顯微測(cè)量|中圖儀器顯微測(cè)量儀0.1nm分辨率精準(zhǔn)捕捉三維形貌
顯微測(cè)量的原理及其在先進(jìn)制造業(yè)中的意義
顯微測(cè)量是利用顯微鏡實(shí)現(xiàn)對(duì)微小尺寸和形狀的測(cè)量的一種技術(shù)手段。它能以高精確度測(cè)量微觀尺寸,,幫助制造業(yè)實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的產(chǎn)品,。
顯微測(cè)量的原理主要基于光學(xué)和機(jī)械原理,。在顯微鏡的幫助下,可以放大被測(cè)物體的面積和形狀,,使其更容易被觀察和測(cè)量,。這種技術(shù)的應(yīng)用范圍非常廣泛,涵蓋了諸多領(lǐng)域,。
在先進(jìn)制造業(yè)中,,不管是零件尺寸的測(cè)量還是表面質(zhì)量的評(píng)估,顯微測(cè)量都可以提供高精度的數(shù)據(jù)支持,。這對(duì)于確保產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性至關(guān)重要,;通過測(cè)量微小尺寸的變化和形狀的改變,顯微測(cè)量還可以獲取加工過程中的有價(jià)值的信息,,幫助制造業(yè)進(jìn)行工藝優(yōu)化,。
中圖儀器顯微測(cè)量儀集合光學(xué)干涉、3D成像算法,、納米驅(qū)動(dòng)關(guān)鍵技術(shù),,為制造業(yè)提供了準(zhǔn)確、可靠的測(cè)量手段:
1,、三維顯微成像
W系列光學(xué)3D表面輪廓儀,,Z向測(cè)量精度達(dá)到納米級(jí)。它基于白光干涉原理,,以3D非接觸方式,,測(cè)量分析樣品表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸。典型結(jié)果包括:表面形貌(粗糙度,,平面度,,平行度,,臺(tái)階高度,錐角等等),、幾何特征(關(guān)鍵孔徑尺寸,,曲率半徑,特征區(qū)域的面積和體積,,特征圖形的位置和數(shù)量等等),。
針對(duì)超光滑凹面弧形所需同時(shí)滿足的高精度、大掃描范圍測(cè)量需求,,W1的復(fù)合型EPSI重建算法,,解決了傳統(tǒng)相移法PSI掃描范圍小、垂直法VSI精度低的雙重缺點(diǎn),。在自動(dòng)拼接模塊下,,只需要確定起點(diǎn)和終點(diǎn),即可自動(dòng)掃描,,重建其超光滑的表面區(qū)域,,不見一絲重疊縫隙。
VT6000共聚焦顯微鏡,,大傾角超清納米測(cè)量,。它用于略粗糙度的工件表面的微觀形貌檢測(cè),可分析粗糙度,、凹坑瑕疵,、溝槽等參數(shù)。對(duì)大坡度的產(chǎn)品有更好的成像效果,,在滿足精度的情況下使用場(chǎng)景更具有兼容性,。
2、二維超精密測(cè)量
CP系列臺(tái)階儀,,亞埃級(jí)垂直分辨率,。作為一款超精密接觸式微觀輪廓測(cè)量儀器,主要用于臺(tái)階高,、膜層厚度,、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測(cè)量。能夠測(cè)量樣品表面的2D形狀或翹曲,,如在半導(dǎo)體晶圓制造過程中,,因多層沉積層結(jié)構(gòu)中層間不匹配所產(chǎn)生的翹曲或形狀變化,或者類似透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑,。
顯微測(cè)量技術(shù)在先進(jìn)制造業(yè)中具有至關(guān)重要的意義,。它為制造業(yè)提供了準(zhǔn)確、可靠的測(cè)量手段,,幫助企業(yè)實(shí)現(xiàn)了更高水平的制造和更高質(zhì)量的產(chǎn)品,。隨著科技的不斷進(jìn)步,,相信顯微測(cè)量技術(shù)將會(huì)在未來取得更大的突破和應(yīng)用。