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南京淳寅嘉生物科技有限公司>>合肥科晶>>CVD/PECVD/ALD系統(tǒng)>> OTF-1200X-S-HPCVD坩堝(樣品臺)可移動型1200°C管

坩堝(樣品臺)可移動型1200°C管

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  • 坩堝(樣品臺)可移動型1200°C管
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參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 OTF-1200X-S-HPCVD
  • 品牌 合肥科晶
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 所在地 南京市
在線詢價 收藏產(chǎn)品

更新時間:2021-03-09 17:40:11瀏覽次數(shù):350

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè)
OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內(nèi)移動(靠步進(jìn)電機控制)的小型開啟式管式爐,。爐管直徑為50mm,設(shè)備工作溫度為1200℃,。設(shè)備特點∶坩堝通過一步進(jìn)電機控制爐管,,按照設(shè)定程序移動,同時坩堝后端安裝一熱電偶(隨坩堝儀器移動),,可實時監(jiān)測樣品的溫度,,意味著可通過移動坩堝的位置,在爐體中準(zhǔn)確找到實驗所需要的溫度,,使得實驗準(zhǔn)確度更高,,重復(fù)性更強。此款設(shè)備可用于多種實驗

詳細(xì)介紹

高溫爐部分

爐體設(shè)計為開啟式,,以便于更換爐管工作電源∶ 208.240 VAC,,50/60Hz z功率為∶2KW

工作溫度∶1200℃(<1hr)連續(xù)工作溫度∶ 1100℃加熱區(qū)長度∶ 200m

恒溫區(qū)長度∶60mm(-1℃@1000℃)注∶由于測量里手段及外部環(huán)境的影響,測里結(jié)果可能會有偏差,,此參數(shù)僅供參考不作為該設(shè)備的技術(shù)指標(biāo),。您購買產(chǎn)品需要準(zhǔn)確的恒溫區(qū)數(shù)據(jù),請與我公司銷售人員

爐管∶ 高純石英管,,尺寸50mm ODx44mmIDx450mmL)

溫度控制系統(tǒng)采用PID30段程序化控溫,,其控溫精度為--1℃控溫儀表操作視頻設(shè)有過熱和斷偶保護(hù)熱電偶采用K型熱電偶
真空密封

采用KF結(jié)構(gòu)密封法蘭,硅膠密封圈密封法蘭上安裝有一機械壓力表

右端法蘭與一個真空不銹鋼波紋管連接(不銹鋼波紋管伸縮幅度為150mm)真空度∶ 10-2Torr(用機械泵抽) 10-5Tor(用分子泵抽)

坩堝移動機構(gòu)&PLC控制

一個直徑為14"的歐米伽鎧裝熱電偶(K型),,通過法蘭伸入到爐管中,,并可隨坩堝移動,可實時監(jiān)測樣品的實際溫度,。

通過步進(jìn)電機移動爐管內(nèi)的坩堝(樣品臺),,行程為100mm,移動精度為1mm

通過觸摸屏設(shè)定坩堝一定的距離和目標(biāo)位置,,坩堝移動速度為180mm min(更準(zhǔn)的移動速度,,可與本公司定制,需額外收費)

可觀察下圖,,了解坩堝與熱電偶的安裝方法

加熱速率和冷卻速率

可通過移動樣品到已預(yù)加熱的爐體中來得到加熱速率,,也可將樣品迅速移除高溫的爐體,來得到降溫速率的

降溫速率

加熱速率

10℃C/sec (950℃C-900℃); 10℃℃/sec (150℃.250℃);

[7℃/sec (900℃-850℃); 7℃/sec (250℃.350℃);

l℃/sec (850℃-750℃);℃/sec (350℃- 500℃);

2℃Csec(750℃-600℃C; B℃C/sec(6500℃.5s0℃);

1.5℃sec(600℃-500℃; 2℃/sec(550℃-650℃);

1℃C/e(500℃-400℃; 1℃C/sec(650℃-800℃);

0.5℃Csec400℃.300℃C);

0.5℃/sec(800℃-1000℃;

可選配件

可選購手動擋板閥(圖1)防腐型數(shù)顯真空計(圖4)

快速連接法蘭,,以方便于放置樣品(圖2)

多路質(zhì)量流量計控制的混氣系統(tǒng),,用于CVD和DVD實驗(圖5)

尺寸 
質(zhì)保 
一年質(zhì)保期,終生維護(hù) (不含加熱元件,、爐管和密封圈)
質(zhì)量認(rèn)證

 CE認(rèn)證

所有電器元件(>24V)都通過UL /MET /CSA認(rèn)證

注意事項

若客戶出認(rèn)證費用,,本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證

爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa

由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MP-0.1MPa,,使用時會更加安全

當(dāng)爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),,爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相,,保持在常壓狀態(tài)

進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM,,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊石英管的長時間使用溫度<1100℃

對于樣品加熱的實驗,,不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用,。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),,若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,,必須立刻打開泄氣閥,,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)

應(yīng)用

此款設(shè)備可用于多種實驗,,以下列出了幾種實驗方法

RTE(快速熱蒸發(fā))∶蒸發(fā)料放在坩堝中,放入到爐體中心,,基片放在樣品臺上,,樣品臺與熱電偶相連接,,然后將樣品臺移動到理想的位置(此位置溫度是實驗所需要的溫度)

HPCVD(混臺物理化學(xué)沉積);與RTE相似,但需配混氣系統(tǒng),,對反應(yīng)氣體混臺并控制流量,,同時也需設(shè)定蒸發(fā)料的位置(確定蒸發(fā)料的蒸發(fā)溫度)

水平布里奇曼(Bridgman)法來長晶體∶將樣品和籽晶放入到坩堝中,并將坩堝放入到爐體中心位置,,然后設(shè)定坩堝移動速度,,慢慢移動坩堝

 

 

一年質(zhì)保期,,終生維護(hù) (不含加熱元件,、爐管和密封圈)

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