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蒸發(fā)鍍膜儀是微納結(jié)構(gòu)制備中*的工藝設(shè)備
閱讀：349 發(fā)布時間：2021-4-28
蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質(zhì),，使之升華,，蒸發(fā)粒子流直接射向基片，并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜,，或加熱蒸發(fā)鍍膜材料的真空鍍膜方法,。
物理過程由物料蒸發(fā)輸運到基片沉積成膜,，其物理過程為：采用幾種能源方式轉(zhuǎn)換成熱能,，加熱鍍料使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能量(0.1~0.3eV)的氣態(tài)粒子(原子,、分子或原子團),；離開鍍料表面，具有相當(dāng)運動速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面,；到達基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核生長成固相薄膜,；組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學(xué)鍵合
蒸發(fā)鍍膜儀將蒸發(fā)材料放在坩堝內(nèi)，坩堝放置在高真空腔體中,，通過高壓燈絲發(fā)射電子,，電子通過磁場偏轉(zhuǎn)轟擊到坩堝內(nèi)的蒸鍍材料表面,，對蒸鍍材料進行加熱，電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中,，使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發(fā),，實現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。根據(jù)不同材料的性質(zhì)分為固態(tài)升華和液態(tài)蒸發(fā),，整個蒸發(fā)過程是物理過程,，實現(xiàn)物質(zhì)從源到薄膜的轉(zhuǎn)移。裝有蒸發(fā)材料的坩堝周圍有冷卻系統(tǒng),，避免坩堝內(nèi)壁與蒸發(fā)材料發(fā)生反應(yīng)影響薄膜質(zhì)量,。通過調(diào)節(jié)電子束的功率，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率,，特別適用于高熔點以及高純金屬材料,，通過膜厚測量系統(tǒng)可實時精確測量蒸發(fā)速率和薄膜厚度。該設(shè)備可制備高純薄膜,，是微納結(jié)構(gòu)制備中*的工藝設(shè)備,。