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帶您了解納米壓印系統(tǒng)的相關(guān)信息

閱讀:1689        發(fā)布時(shí)間:2022/9/15
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納米壓印系統(tǒng)是微納結(jié)構(gòu)制備的主要設(shè)備,,需兼具熱壓印和紫外壓印兩種功能,而且可以快速的實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的壓印,,可以處理各種不同形狀,、滿足處理直徑約10mm的模版和基片,,實(shí)現(xiàn)大面積、性能穩(wěn)定超表面光學(xué)元件生產(chǎn),,并在國際上優(yōu)先探索并實(shí)現(xiàn)空間工程化應(yīng)用,進(jìn)而提高應(yīng)衛(wèi)星激光通信終端小型化,、輕量化水平,大幅度降低激光通信終端光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)鏡片及組件的尺寸,,是今后激光通信終端的小型化和輕量化取得重大突破的關(guān)鍵技術(shù)之一,。
納米壓印技術(shù)工藝:模板制造、壓印過程(包括模板處理,、加壓,、脫模過程)及圖形轉(zhuǎn)移過程。納米壓印精度和模板的精度直接相關(guān),;光刻膠材料影響著熱壓溫度和曝光時(shí)間,;壓印過程中模板與壓印材料之間的對準(zhǔn)、平行度,、壓力均勻性,、溫度均勻性、脫模技術(shù)等都會(huì)影響最終的產(chǎn)品質(zhì)量,。在壓印后精細(xì)結(jié)構(gòu)檢測方面,,一般需要檢測的項(xiàng)目包括:線寬、深度,、缺陷,、膜厚、粗糙度,、翹曲度等,,主要用到AFM、SEM,、臺(tái)階儀,、輪廓儀等設(shè)備。
納米壓印較傳統(tǒng)光刻技術(shù)可在采用較低成本的條件下大批量制備具有超高精度的圖形,,同時(shí)也具有良好的均勻性和可重復(fù)性,,此外可以傳統(tǒng)光刻工藝有很大程度的兼容性。納米壓印除了在集成電路領(lǐng)域有著非常廣闊的應(yīng)用前景,,同時(shí)在光學(xué)領(lǐng)域納米壓印可用來制備周期小于光學(xué)波長的亞波長光柵,。

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