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快速退火爐的應用領(lǐng)域及設(shè)備說明
應用領(lǐng)域：
1.快速熱處理(RTP),，快速退火(RTA),，快速熱氧化(RTO),，快速熱氮化(RTN),；
2.離子注入/接觸退火,；
3.金屬合金,；
4.熱氧化處理；
5.化合物合金(砷化鎵,、氮化物等),；
6.多晶硅退火；
7.太陽能電池片退火,；
8.高溫退火,；
9.高溫擴散。
設(shè)備說明：
快速退火爐主要由真空腔室,、加熱室,、進氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng),、溫度控制系統(tǒng),、氣冷系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等幾部分組成,。
真空腔室：真空腔室是快速退火爐的工作空間,，晶圓在這里進行快速熱處理。
加熱室：加熱室以多個紅外燈管為加熱元件,，以耐高溫合金為框架,、高純石英為主體。
進氣系統(tǒng)：真空腔室尾部有進氣孔,，精確控制的進氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求,。
真空系統(tǒng)：在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥，可以有效確保腔室真空度,，同時避免氣體倒灌污染腔室內(nèi)的被處理工件,。
溫度控制系統(tǒng)：溫度控制系統(tǒng)由溫度傳感器、溫度控制器,、電力調(diào)整器,、可編程控制器,、PC及各種傳感器等組成,。
氣冷系統(tǒng)：真空腔室的冷卻是通過進氣系統(tǒng)向腔室內(nèi)充入惰性氣體,，來加速冷卻被熱處理的工件，滿足工藝使用要求,。
水冷系統(tǒng)：水冷系統(tǒng)主要包括真空腔室,、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水,。