真空系統(tǒng)、容器或器件的器壁因材料本身缺陷或焊縫,、機械連接處存在孔洞,、裂紋或間隙等缺陷,外部大氣通過這些缺陷進入系統(tǒng)內(nèi)部,,致使系統(tǒng),、容器或器件達(dá)不到預(yù)期的真空度,,這種現(xiàn)象稱為漏氣。
真空檢漏技術(shù)就是用適當(dāng)?shù)姆椒ㄅ袛嗾婵障到y(tǒng),、容器或器件是否漏氣、確定漏孔位置及漏率大小的一門技術(shù),,相應(yīng)的儀器稱為檢漏儀,。在真空系統(tǒng)、容器,、器件制造過程中借助真空檢漏技術(shù)確定它們的真空氣密性,、探查漏孔的位置,以便采取措施將漏孔封閉從而使系統(tǒng),、容器,、器件中的真空狀態(tài)得以維持。
真空檢測常用的有氣壓檢漏,、氨敏紙檢漏,、熒光檢漏、高頻火花檢漏,、放電管檢漏和儀器檢漏等多種方法,。
標(biāo)準(zhǔn)漏孔指在溫度為23±7、露點低于-25的干燥空氣中,,保持漏孔一端壓強為100千帕±5%,,另一端壓強低于1千帕的狀態(tài)下,經(jīng)過校準(zhǔn)后確定漏率的漏孔。常用標(biāo)準(zhǔn)漏孔有玻璃毛細(xì)管漏孔,、薄膜滲氦漏孔,、玻璃-白金絲漏孔、金屬壓扁漏孔,、多孔金屬或陶瓷漏孔和放射性漏孔等,。氣壓檢漏 被檢零部件內(nèi)腔充以氣體(一般為空氣),充氣壓力的高低視零部件的強度而定,,一般為(2~4)×105帕,。用皂液涂于零部件可疑表面處,有氣泡出現(xiàn)處便是漏孔位置,。用這種方法最小可檢漏率為5×10-3帕·升/秒的漏孔,。此外,還可將充氣的零部件浸在清凈的水槽中,,氣泡形成處便是漏孔位置,。用水槽顯示漏孔,方便可靠,,并能同時全部顯示出漏孔位置,。如氣泡小,、成泡速度均勻、氣泡持續(xù)時間長,,則為1.3×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔,。如氣泡大、成泡持續(xù)時間短,,則為13~103帕·升/秒漏率的漏孔,。
氨敏紙檢漏 將被檢零部件內(nèi)腔抽空后,充入壓力為(1.5~2)×105帕的氨氣,,在可疑表面處貼上溴酚藍(lán)的試紙或試布,,用透明膠紙封住,試紙或試布上有藍(lán)斑點出現(xiàn),,即是漏孔的位置,。用這種方法可檢漏率為7×10-4~106帕·升/秒的漏孔。
熒光檢漏 將被檢的零部件浸入熒光粉的有色溶液(二氯乙烯或四氯化碳)中,,經(jīng)一定時間后取出烘干,,漏孔處留有熒光粉,在器壁另一面用紫外線照射,,發(fā)光處即為漏孔位置,。
高頻火花檢漏 這種方法僅適用于玻璃真空系統(tǒng)。先將系統(tǒng)抽成真空,,高頻火花檢漏儀的火花端沿著玻璃表面移動,,火花集中成束形成亮點處即是漏孔位置。
放電管檢漏 將放電管接到系統(tǒng)上,,并將系統(tǒng)抽成中真空,,在高頻電壓作用下系統(tǒng)中殘存氣體(空氣)產(chǎn)生紫紅色或玫瑰色輝光放電。若在系統(tǒng)可疑表面處涂上丙酮,、汽油,、酒精或其他易揮發(fā)的碳?xì)浠衔铮兴{(lán)色放電顏色出現(xiàn)之處便是漏孔位置,。
真空計檢漏 根據(jù)相對真空計(熱導(dǎo)真空計和電離真空計等)的讀數(shù)檢漏的方法,。真空計的工作壓力范圍就是檢漏適用的壓力范圍。檢漏時在可疑處噴吹示漏氣體氫,、氧,、二氧化碳、乙烷或用棉花涂以丙酮,、甲醇等,。示漏氣體進入系統(tǒng)后會引起真空計讀數(shù)的突然變化。熱導(dǎo)真空計可檢漏率為10-3帕·升/秒的漏孔;電離真空計可檢漏率為10-4~10-5帕·升/秒的漏孔,。鹵素檢漏儀檢漏,。鉑陽極筒和不銹鋼陰極筒構(gòu)成一個間熱式二極規(guī)管,。當(dāng)加熱絲將鉑陽極加熱到 1027~1223K時,鉑發(fā)出的正離子在負(fù)電場下到達(dá)陰極形成電流,。在鹵素氣體的催化作用下,,正離子的發(fā)射急劇增加。鹵素檢漏儀就是利用這樣的效應(yīng)制成的,。檢漏時將規(guī)管接到系統(tǒng)中,,并將系統(tǒng)抽到9~2帕真空,有噴槍把鹵素氣體(常用氟利昂R12)噴向被檢零部件可疑表面處,,引起離子流值急劇增加處即是漏孔位置?;蚺c此相反將高于大氣壓力的鹵素氣體壓入系統(tǒng)內(nèi),,探測槍在被檢零部件外表移動,鹵素氣體逸出處引起離子流值急劇增加,,此處即為漏孔位置,。用這種方法可檢最小漏率為10-3~10-4帕·升/秒的漏氣。氦質(zhì)譜檢漏 常用的一種檢漏法,。用氦氣作為示漏氣體,,以磁偏轉(zhuǎn)質(zhì)譜計作為檢漏工具,工作原理與真空質(zhì)譜計相同,,差別僅在于氦質(zhì)譜檢漏儀使用的磁場和加速電壓基本上是固定的,,因為它只檢測氦離子。另外,,為了提高離子流的輸出,,適當(dāng)犧牲分辨能力以降低對測量放大器的要求,所以這種檢漏儀具有結(jié)構(gòu)簡單,、靈敏度高,、性能穩(wěn)定、操作方便等優(yōu)點,。氦質(zhì)譜檢漏儀的主要技術(shù)指標(biāo)有:①靈敏度,,又稱最小可檢漏率,單位為帕·米3/秒;②反應(yīng)時間與清除時間,,單位為秒;③工作壓強與極限壓強,,單位為帕。
氦質(zhì)譜檢漏方法 根據(jù)被檢漏的零件的具體情況采用不同的方法,。真空容器或器件常用噴吹法,、氦室法和累積法。噴吹法是用噴槍對可疑部分噴氦氣,,找出漏孔的位置,,但效率較低;氦室法可對大容器檢漏,,將可疑部分用氦室罩上充入氦氣,可以找到漏孔的大致范圍,但漏孔位置不能精確確定。氦室法檢漏效率較高,。對于微小漏孔,,可采用累積法,即先用氦室對可疑部分充入氦氣,,再將檢漏儀節(jié)流閥關(guān)閉,,積累一定時間,打開節(jié)流閥,,觀察離子流的變化,。這樣,檢漏靈敏度可提高1~2個數(shù)量級,。其他方法還有吸收法,、背壓法等。對于容積大,、放氣量大,、漏率大的容器可采用反流檢漏法,即將被檢容器接在真空系統(tǒng)的擴散泵和機械泵之間,,利用擴散泵的反流作用,,使氦氣反流到質(zhì)譜室而進行檢漏。