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一,、概述

SE-m是一款針對半導(dǎo)體行業(yè)定制的微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量的專用型光譜橢偏儀，其采用行業(yè)較新橢偏創(chuàng)新技術(shù),，自主獨立研發(fā)出

1,、超小微光斑探測測量技術(shù)

2、定制超快測量速度等技術(shù),。

可應(yīng)用透明各類襯底上的減反膜,、導(dǎo)電膜等薄膜的n/k/d測量，適用于微區(qū)圖形的各種光學(xué)參數(shù)解析,。

二,、特色功能

1、可定制光斑尺寸,，最小可達30um,；

2、超快測量,，單次測量時間小于0.5秒 ,；

3、系列配置靈活,，支持功能定制設(shè)計,；

4、光譜橢偏儀結(jié)構(gòu)緊湊,，更適應(yīng)在線集成測量,。

三、測量實例

四,、應(yīng)用場景 

應(yīng)用于光學(xué)常數(shù)測量,，適用于各類光學(xué)薄膜等鍍膜檢測應(yīng)用。