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microphase石墨烯合成裝置MPCVD-50介紹
閱讀：1409 發(fā)布時(shí)間：2022-9-7microphase石墨烯合成裝置MPCVD-50介紹
用于碳納米管的合成、碳成膜,、納米陶瓷成膜,、氮化,、硫?qū)倩锍赡さ取?/p>
| 目的 ： | 用于合成碳納米管、在粉末樣品上沉積碳膜以及各種 CVD 膜沉積的通用管式爐型熱 CVD 設(shè)備,。 通過(guò)增加氨氣,、各種CVD反應(yīng)氣體、升華固體前驅(qū)體,、液體前驅(qū)體的引入單元,， 可應(yīng)用于氮化、硫?qū)倩铮ǘ蚧fMoS2等）層狀材料沉積等,。 |
|---|---|
| 特征 ： |
|
LIB電池用Si負(fù)極材料上的碳涂層
二硫化鉬薄膜
長(zhǎng) CNT/Si 的 SEM 圖像
粉末狀 CNT 的 SEM 圖像
主要規(guī)格
| 基本配置 | 管式爐 | 正常使用溫度 | 400-1000℃ |
| 爐內(nèi)尺寸 | 60mmφ×L260mm | ||
| 溫度控制 | 1區(qū)可編程溫度控制器 | ||
| 外形尺寸 | W300mm x H200mm x D186mm | ||
| 電容 | 700W | ||
| 芯管 | 材料 | 石英 | |
| 尺寸 | OD50mm x ID46mm x L900mm | ||
| 氣體控制 | 質(zhì)量流量控制器 | ||
| 引入氣體類(lèi)型 | 載氣：N2 或 Ar 還原氣體：H2 烴類(lèi)氣體：C2H2 或 C2H4 或 CH4 | ||
| 真空計(jì) | 波登管真空計(jì) | ||
| 排氣泵 | 旋轉(zhuǎn)泵 | ||
| 外形尺寸 | W156mm x H200mm x D300mm | ||
| 液體物料引入系統(tǒng) | |||
| 催化劑前驅(qū)體引入機(jī)制 | |||
| 外形尺寸 | W1100mm×H1000mm×D500mm | ||