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熱化學(xué)氣相沉積-熱CVD技術(shù)
閱讀：1928 發(fā)布時間：2022-7-21熱化學(xué)氣相沉積-熱CVD技術(shù)
化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)是用來制備高純,、高性能固體薄膜的主要技術(shù),。在典型的CVD工藝過程中，把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中,，在外部能量作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并在襯底表面形成需要的薄膜,。由于CVD技術(shù)具有成膜范圍廣、重現(xiàn)性好等優(yōu)點(diǎn),，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜,。北方華創(chuàng)微電子憑借十余年的微電子領(lǐng)域工藝設(shè)備開發(fā)經(jīng)驗，先后完成了PECVD,、APCVD,、LPCVD、ALD等設(shè)備的開發(fā),，致力于為集成電路,、半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng),、功率半導(dǎo)體,、化合物半導(dǎo)體、新能源光伏等領(lǐng)域提供各種類型的CVD設(shè)備,，滿足客戶多種制造工藝需求,。
熱CVD設(shè)備型號：HCVD400-40 / 工作溫度：800℃
套裝內(nèi)容：管式爐、控制器,、石英爐芯管,、法蘭、支架,、龍門架
* 討論了龍門架的形狀和尺寸,、燃?xì)忸愋汀⒘髁坑?、燃?xì)夤艿?、閥門部件,。
| 主要規(guī)格 | |
| 加熱部分 | 爐體外形：260×400L/爐內(nèi)尺寸：φ80×350L 加熱器容量：1480W 常溫：1050℃ |
| 溫度控制單元 | 觸摸面板式程序溫度控制器 程序：10 模式/9 步，電源 100V15A 型號：HK10P-115K,，電源 100V/15A * ELB,，過熱防止，冷卻風(fēng)扇,，帶 ON/OFF 開關(guān) |
| 氣氛 | 芯管：透明石英管（GE214）Φ36×φ40×700L *本裝置芯管內(nèi)徑為φ36mm,，購買前請查看樣品尺寸。 法蘭：φ40用火芯管連接法蘭（材質(zhì)：主體/SUS304,、O型圈/Biton） 氣體導(dǎo)入管連接直徑：1/4英寸（Φ6.35）咬合 |