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熱化學氣相沉積-熱CVD技術(shù)

化學氣相沉積（CVD）技術(shù)是用來制備高純,、高性能固體薄膜的主要技術(shù)。在典型的CVD工藝過程中,，把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中,，在外部能量作用下發(fā)生化學反應并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術(shù)具有成膜范圍廣,、重現(xiàn)性好等優(yōu)點,，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜。北方華創(chuàng)微電子憑借十余年的微電子領(lǐng)域工藝設(shè)備開發(fā)經(jīng)驗,，先后完成了PECVD,、APCVD、LPCVD,、ALD等設(shè)備的開發(fā),，致力于為集成電路、半導體照明,、微機電系統(tǒng),、功率半導體、化合物半導體,、新能源光伏等領(lǐng)域提供各種類型的CVD設(shè)備,，滿足客戶多種制造工藝需求。

熱CVD設(shè)備型號：HCVD400-40 / 工作溫度：800℃

套裝內(nèi)容：管式爐,、控制器,、石英爐芯管、法蘭,、支架,、龍門架
　　　　　　　* 討論了龍門架的形狀和尺寸、燃氣類型,、流量計,、燃氣管道、閥門部件,。