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nanoArch S140-10μm精度微納3D打印系統(tǒng)
  • nanoArch S140-10μm精度微納3D打印系統(tǒng)

貨物所在地:廣東深圳市

地: 廣東深圳

更新時間:2025-04-10 21:00:07

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nanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統(tǒng)是可以實現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統(tǒng),,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術,。該技術使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,,在液面固化樹脂并快速微立體成型,,從數(shù)字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作,。

nanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統(tǒng)是可以實現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統(tǒng),,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),,將需打印圖案投影到樹脂槽液面,,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,,完成樣品的制作,。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢,,被認為是目前最有前景的微納加工技術之一,。

nanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統(tǒng)是科研級3D打印系統(tǒng),,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,,可以兼顧微尺度和宏觀樣件的打印,從而實現(xiàn)超高精度大幅面的樣件制作,,非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新,。

nanoArchR S140 系統(tǒng)性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏樹脂

光學精度

10μm



XY打印精度

10~40μm

打印層厚

10~40μm

打印樣品尺寸

Mode Single:19.2mm*10.8mm*45mm
Mode stitch:94mm*52mm*45mm
Mode Array:94mm*52mm*45mm



打印文件格式

STL

系統(tǒng)外形尺寸

1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3

機器外形尺寸

650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3



重量

300kg

電氣要求

200~240V AC,50/60HZ,3KW

其他要求

部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊

設備功率

3000W





注:①、樣品高度典型10mm,最高45mm

打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂,,比如HDDA,,PEGDA等。

個性化

405nm固化波段的光敏樹脂材料 ,支持透明樹脂,,柔性樹脂,,硬性樹脂,納米顆粒摻雜復合樹脂,,4D打印樹脂,,生物醫(yī)療樹脂等,需適配不同的工藝和模型,,不保證打印性能



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