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nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)由深圳市摩方材料科技有限公司自主研發(fā)的高精密微納3D打印系統(tǒng),。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術,，是目前行業(yè)極少能實現超高打印精度,、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統(tǒng),，將需打印模型分層投影至樹脂液面,，快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜工業(yè)樣件,。該技術具有成型效率高,、加工成本低等突出優(yōu)勢，被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一,。

基本參數

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹脂,、耐高溫樹脂、韌性樹脂,、生物兼容性樹脂等

光學精度：2μm

打印層厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復陣列模式）

文件格式：STL

設備功率：3000W

系統(tǒng)外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：550kg

電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

應用領域：

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)可廣泛應用于力學超材料,、生物醫(yī)療、微機械結構,、微流控,、三維復雜仿生結構等領域

企業(yè)簡介：

摩方精密是一家專注于高精密微納3D打印系統(tǒng)及材料的高科技公司，其業(yè)務涵蓋高精密3D打印設備的研發(fā)及生產,、高精密3D打印定制化產品服務,、高精密3D打印原材料的研發(fā)及生產、高精密3D打印工藝設計開發(fā)及相關技術服務,，擁有較為完整的高精密微納3D打印產業(yè)生態(tài)鏈,。

作為微納3D打印的探索者，在三維復雜結構微加工領域,，摩方團隊擁有超過二十年的科研及工程實踐經驗,。