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當(dāng)前位置:武漢賽斯特精密儀器有限公司>>等離子體表面處理系統(tǒng)>>等離子清洗機定制>> 等離子體納米改性升級系統(tǒng)
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地武漢市
更新時間:2024-10-10 18:44:33瀏覽次數(shù):468次
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等離子體納米改性升級系統(tǒng)的產(chǎn)品特點:
等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,,同時具備物理清洗和化學(xué)清洗能力。
電源功率為200W,,覆蓋常規(guī)處理需求,。
創(chuàng)新設(shè)計,可調(diào)整電極之間距離,,調(diào)整等離子體濃度和強度,,大提升處理效率和能力。
真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼,電極6061航空鋁合金,,配件材質(zhì)精良,,保證設(shè)備穩(wěn)定高效運行。
樣品處理面積可達125mm(大處理面積可達200mm,,如有需求請咨詢銷售人員),。
4.3寸工業(yè)級觸摸屏,,操作簡單,,可設(shè)置多種實驗參數(shù)。
性能穩(wěn)定可靠,,質(zhì)量穩(wěn)定,,自主研發(fā),售后有保障,。
等離子體納米改性升級系統(tǒng)的產(chǎn)品參數(shù):
1. 真空腔規(guī)格:316不銹鋼腔體,,直徑210mm*(深)230mm,約4L
2. 電極:兩個自適應(yīng)平板電極,,材質(zhì)T6061鋁合金
3. 電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm可調(diào)
4. 等離子體發(fā)生器:RF射頻發(fā)生器,,頻率:13.56MHz
5. 功率:0-200W連續(xù)可調(diào),精度1W
6. 氣體控制:針式氣體流量閥,,標(biāo)配1路氣體
7. 控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏
控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態(tài),,可顯示設(shè)置值與實際值,便于實時控制,??勺杂稍O(shè)置等離子功率,通入氣體時間,。全手動控制和全自動控制可選,。
8. 保護裝置:一鍵急停保護按鈕
等離子體表面處理系統(tǒng)Pluto-M參數(shù)(標(biāo)準(zhǔn)配置) | |||
外部尺寸 | 404*640*515mm | ||
真空腔尺寸 | 直徑210mm*230mm | 不銹鋼腔體 | |
電極尺寸 | 125*125mm | 多空自適應(yīng)平板電極 | |
等離子體發(fā)生器 | RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz | 自適應(yīng)阻抗匹配電源 | |
功率 | 0-200W連續(xù)可調(diào) | 精度1W | |
真空計 | 熱電偶真空計 0-1000mT | ||
供氣 | 1路氣體 | 6mm國標(biāo)連接件(軟管) | |
控制方式 | 4.3寸觸摸屏 | ||
可選配置 | |||
ALC | 純鋁腔體 | ||
RF-300 | 等離子體發(fā)生器 | 頻率13.56MHz,,0-300W自動阻抗匹配電源 | |
可調(diào)電極 | 可調(diào)節(jié)電極間距 | 電極間距20-60mm可調(diào),,改變等離子體場濃度特性 | |
CM裝置 | 沉積鍍膜模塊 | 用于改變表面特性: 1.沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性 2.沉積含苯材料,,樣品表面起到絕緣防水的特性 3.沉積含有羥基的材料,,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果 | |
GP裝置 | 氣體純化裝置 | ||
PPU | 粉體處理裝置 | 用于處理微納米級別顆粒 | |
氣體收集裝置 | 用于收集等離子體化學(xué)反應(yīng)后的氣體 | ||
小型氧氣發(fā)生器 | 用于制備氧氣,可取代氧氣罐 | ||
氣體混合裝置 | 可以根據(jù)可以要求進行混氣設(shè)計 | ||
感應(yīng)耦合模塊 | 感應(yīng)耦合等離子體裝置 | ||
加熱電極模塊 | 電極可以加熱,,室溫~200度可調(diào) | ||
光譜儀模塊 | 可以增加光譜儀的接口,,檢測等離子體光譜變化 | ||
電極轉(zhuǎn)換模塊 | 可以自由變換電極設(shè)計,樣品可以放在射頻電極上,,也可以放在地電極上,。從而實現(xiàn)不同的處理效果 |
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