蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)知識(shí)介紹：

磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition,，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬,、半導(dǎo)體,、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單,、易于控制,、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程,。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過程,，和靶原子碰撞，把部分動(dòng)量傳給靶原子,，此靶原子又和其他靶原子碰撞,，形成級(jí)聯(lián)過程。在這種級(jí)聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量,，離開靶被濺射出來,。

蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)是一種普適鍍膜機(jī)，用于各種單層膜,、多層膜和摻雜膜系,?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜,、合金,、化合物、半導(dǎo)體,、陶瓷膜,、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜，亦可鍍鐵磁材料,。主要用于實(shí)驗(yàn)室制備有機(jī)光電器件的金屬電極及介電層,，以及制備用于生長(zhǎng)納米材料的催化劑薄膜層。