Pluto-MD等離子去膠機

產(chǎn)品介紹 ：

去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程,，在電子束曝光,，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進行去除或打底膜處理,。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題,，將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件,，可對工藝參數(shù)進行精細控制,。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)嚴格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應用于功率晶體管,、模擬器件,、傳感器、光學器件,、光電,、EMS/MOEMS、生物器件,、LED等領(lǐng)域,。

產(chǎn)品性能：

經(jīng)過真空檢漏316不銹鋼腔體， 具備更好密封性能和保壓能力

5L腔體,，雙層電極,，離子密度可控

13.5EMHz射頻等離子源，兼容物理反應和化學反應,，覆蓋全部樣品種類

創(chuàng)新可調(diào)電極,，可以調(diào)整有效處理面積中等離子體的能量密度

標配兩路氣體，適應更多用戶需求,。

Pluto-MD等離子去膠機采用電容觸摸屏,，全數(shù)字控制,。

全手動控制和預設(shè)工藝參數(shù)自動運行

Pluto-MD等離子去膠機 產(chǎn)品參數(shù)：