目錄:北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司>>電子顯微鏡>>場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡>> Quattro SEM場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
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更新時(shí)間：2023-03-20 10:52:36瀏覽次數(shù)：5539評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類(lèi) | 場(chǎng)發(fā)射 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油 |
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡Quattro SEM特點(diǎn)與用途：
在自然狀態(tài)下對(duì)材料進(jìn)行預(yù)案為研究,，具有環(huán)境真空模式（ESEM）的高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡；
縮短樣品制備時(shí)間：低真空和環(huán)境真空技術(shù)可針對(duì)不導(dǎo)電和/或含水樣品直接成像和分析,，樣品表面無(wú)荷電累積,；
在各種操作模式下分析導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品，同步獲取二次電子像和背散射電子像,；
優(yōu)良的分析性能，樣品倉(cāng)可同時(shí)安裝3三個(gè)EDS探測(cè)器,，其中2個(gè)EDS端口分開(kāi)180°,、WDS和共勉EDS/EBSD;
針對(duì)不導(dǎo)電樣品的分析性能：憑借“壓差真空系統(tǒng)"實(shí)現(xiàn)低真空模式下的EDS和EBSD分析,；
靈活、準(zhǔn)確的優(yōu)中心樣品臺(tái),，105°傾斜角度范圍,，可多方位觀察樣品；
軟件直觀,、簡(jiǎn)便易用,，并配置用戶(hù)向?qū)Ъ癠ndo（撤銷(xiāo)）功能，操作步驟減少,，分析更快速,；
全新創(chuàng)新選項(xiàng)，包括可伸縮RGB陰極熒光（CL）探測(cè)器,、1100℃高真空熱臺(tái)和AutoScript,。
金屬及合金、斷口,、焊點(diǎn),、拋光斷面、磁性及超導(dǎo)材料
陶瓷,、復(fù)合材料,、塑料
薄膜/涂層
地質(zhì)樣品斷面、礦物
軟材料：聚合物,、藥物,、濾膜、凝膠,、生物組織,、植物材料
顆粒、多孔材料,、纖維
水合/脫水/濕潤(rùn)/接觸角分析
結(jié)晶/相變
氧化/催化
材料生成
拉伸（伴隨加熱或冷卻）
發(fā)射源：高穩(wěn)定型肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍
分辨率：
型號(hào) | Quattro C | Quattro S |
高真空 | ||
30kV（SE） | 1.0nm | |
1kV（SE） | 3.0nm | |
低真空 | ||
30kV（SE） | 1.3nm | |
3kV（SE） | 3.0nm | |
30kV（BSE） | 2.5nm | |
環(huán)境掃描模式 | ||
30kV（SE） | 1.3nm | |
放大倍率：6 ~ 2,500,000×
加速電壓范圍：200V ~ 30kV
探針電流范圍：1pA – 200nA,，連續(xù)可調(diào)
X-Ray工作距離：10mm，EDS檢出角35°
樣品室：從左至右為340mm寬的大存儲(chǔ)空間,，樣品室可拓展接口數(shù)量12個(gè),，含能譜儀接口3個(gè)（其中2個(gè)處于180°對(duì)角位置）
樣品臺(tái)和樣品：
探測(cè)器系統(tǒng)：
同步檢測(cè)多達(dá)四種信號(hào)，包括
樣品室高真空二次電子探測(cè)器ETD
低真空二次電子探測(cè)器LVD
氣體SED（GSED,，用于環(huán)境掃描模式）
樣品室內(nèi)IR-CCD紅外相機(jī)（觀察樣品臺(tái)高度）
可用于樣品導(dǎo)航的彩色光學(xué)相機(jī)Nav-Cam™
控制系統(tǒng)：
操作系統(tǒng)：64為GUI（Windows10）,、鍵盤(pán)、光學(xué)鼠標(biāo)
圖像顯示：24寸LCD顯示器,，WUXGA 1920×1200
定制化的圖像用戶(hù)界面,，可同時(shí)激活多達(dá)4個(gè)視圖
導(dǎo)航蒙太奇
軟件支持Undo和Redo功能
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
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