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　　聚焦離子束電鏡通過結合相應的氣體沉積裝置，納米操縱儀,，各種探測器及可控的樣品臺等附件成為一個集微區(qū)成像、加工,、分析,、操縱于一體的分析儀器。其應用范圍也已經(jīng)從半導體行業(yè)拓展至材料科學,、生命科學和地質學等眾多領域,。
 

　　聚焦離子束電鏡的工作原理：
 

　　典型的離子束顯微鏡包括液態(tài)金屬離子源及離子引出極、預聚焦極,、聚焦極所用的高壓電源,、電對中、消像散電子透鏡,、掃描線圈,、二次粒子檢測器、可移動的樣品基座,、真空系統(tǒng),、抗振動和磁場的裝置、電路控制板和電腦等硬件設備,。
 

　　外加電場于液態(tài)金屬離子源,，可使液態(tài)鎵形成細小，再加上負電場牽引的鎵,，而導出鎵離子束,。在一般工作電壓下，電流密度約為10-8A/cm2,，以電透鏡聚焦,，經(jīng)過可變孔徑光闌,，決定離子束的大小，再經(jīng)過二次聚焦以很小的束斑轟擊樣品表面,，利用物理碰撞來達到切割的目的,，離子束到達樣品表面的束斑直徑可達到7納米。
 

　　聚焦離子束電鏡的技術特點：
 

　　1,、最高束流可以達到100nA,且加工性能優(yōu)異,。可以實現(xiàn)快速切割和納米加工,。
 

　　2,、最高分辨率小于3nm，可以實現(xiàn)精細加工,，并顯示優(yōu)異的FIB成像質量,。
 

　　3、電壓范圍在500V-30KV可調,，可以實現(xiàn)精細拋光,，降低樣品表面非晶層厚度。
 

　　4,、離子源比較穩(wěn)定,，使用壽命長。
 

　　5,、與SEM鏡筒配合,，可以實現(xiàn)FIB加工過程中可以利用SEM進行實時觀察。