1,、結(jié)構(gòu)差異:
主要體現(xiàn)在樣品在電子束光路中的位置不同。透射電鏡的樣品在電子束中間,，電子源在樣品上方發(fā)射電子,，經(jīng)過(guò)聚光鏡，然后穿透樣品后,，有后續(xù)的電磁透鏡繼續(xù)放大電子光束,，最后投影在熒光屏幕上;掃描電鏡的樣品在電子束末端，電子源在樣品上方發(fā)射的電子束,，經(jīng)過(guò)幾級(jí)電磁透鏡縮小,，到達(dá)樣品。當(dāng)然后續(xù)的信號(hào)探側(cè)處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)也會(huì)不同,，但從基本物理原理上講沒(méi)什么實(shí)質(zhì)性差別,。
2、基本工作原理:
透射電鏡：電子束在穿過(guò)樣品時(shí),，會(huì)和樣品中的原子發(fā)生散射,，樣品上某一點(diǎn)同時(shí)穿過(guò)的電子方向是不同，這樣品上的這一點(diǎn)在物鏡1-2倍焦距之間,，這些電子通過(guò)過(guò)物鏡放大后重新匯聚,，形成該點(diǎn)一個(gè)放大的實(shí)像，這個(gè)和凸透鏡成像原理相同,。這里邊有個(gè)反差形成機(jī)制理論比較深就不講,，但可以這么想象，如果樣品內(nèi)部是絕對(duì)均勻的物質(zhì),，沒(méi)有晶界,，沒(méi)有原子晶格結(jié)構(gòu)，那么放大的圖像也不會(huì)有任何反差,，事實(shí)上這種物質(zhì)不存在,，所以才會(huì)有這種儀器存在的理由,。
掃描電鏡：電子束到達(dá)樣品，激發(fā)樣品中的二次電子,，二次電子被探測(cè)器接收,，通過(guò)信號(hào)處理并調(diào)制顯示器上一個(gè)像素發(fā)光，由于電子束斑直徑是納米級(jí)別,，而顯示器的像素是100微米以上,，這個(gè)100微米以上像素所發(fā)出的光，就代表樣品上被電子束激發(fā)的區(qū)域所發(fā)出的光,。實(shí)現(xiàn)樣品上這個(gè)物點(diǎn)的放大,。如果讓電子束在樣品的一定區(qū)域做光柵掃描，并且從幾何排列上一一對(duì)應(yīng)調(diào)制顯示器的像素的亮度,，便實(shí)現(xiàn)這個(gè)樣品區(qū)域的放大成像,。
3、對(duì)樣品要求
(1)掃描電鏡
SEM制樣對(duì)樣品的厚度沒(méi)有特殊要求,，可以采用切,、磨、拋光或解理等方法將特定剖面呈現(xiàn)出來(lái),，從而轉(zhuǎn)化為可以觀察的表面,。這樣的表面如果直接觀察，看到的只有表面加工損傷,，一般要利用不同的化學(xué)溶液進(jìn)行擇優(yōu)腐蝕,，才能產(chǎn)生有利于觀察的襯度。不過(guò)腐蝕會(huì)使樣品失去原結(jié)構(gòu)的部分真實(shí)情況,，同時(shí)引入部分人為的干擾,，對(duì)樣品中厚度極小的薄層來(lái)說(shuō)，造成的誤差更大,。
(2)透射電鏡
由于TEM得到的顯微圖像的質(zhì)量強(qiáng)烈依賴于樣品的厚度,，因此樣品觀測(cè)部位要非常的薄，例如存儲(chǔ)器器件的TEM樣品一般只能有10～100nm的厚度,，這給TEM制樣帶來(lái)很大的難度,。初學(xué)者在制樣過(guò)程中用手工或者機(jī)械控制磨制的成品率不高，一旦過(guò)度削磨則使該樣品報(bào)廢,。TEM制樣的另一個(gè)問(wèn)題是觀測(cè)點(diǎn)的定位,，一般的制樣只能獲得10mm量級(jí)的薄的觀測(cè)范圍，這在需要精確定位分析的時(shí)候,，目標(biāo)往往落在觀測(cè)范圍之外,。目前比較理想的解決方法是通過(guò)聚焦離子束刻蝕(FIB)來(lái)進(jìn)行精細(xì)加工。
擴(kuò)展資料：
透射電子顯微鏡的成像原理可分為三種情況：
（1）吸收像：當(dāng)電子射到質(zhì)量,、密度大的樣品時(shí),，主要的成相作用是散射作用。樣品上質(zhì)量厚度大的地方對(duì)電子的散射角大,，通過(guò)的電子較少,，像的亮度較暗。早期的透射電子顯微鏡都是基于這種原理,。
?。?）衍射像：電子束被樣品衍射后，樣品不同位置的衍射波振幅分布對(duì)應(yīng)于樣品中晶體各部分不同的衍射能力,，當(dāng)出現(xiàn)晶體缺陷時(shí),，缺陷部分的衍射能力與完整區(qū)域不同，從而使衍射波的振幅分布不均勻,，反映出晶體缺陷的分布。
?。?）相位像：當(dāng)樣品薄至100Å以下時(shí),，電子可以穿過(guò)樣品，波的振幅變化可以忽略,，成像來(lái)自于相位的變化,。
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