場發(fā)射掃描電鏡采用更為先進(jìn)的肖脫基場發(fā)射光源,。采用場發(fā)射光源后電子束能量更強(qiáng)，二次電子相(也就是我們平時所說的掃描照片)更加清晰,，放大倍數(shù)在理想的情況下可以達(dá)到10萬倍以上,。同時，在進(jìn)行EBSD的測試中也具有相當(dāng)?shù)膬?yōu)勢,。主要由電子光學(xué)系統(tǒng),、信號收集處理系統(tǒng)、真空系統(tǒng),、圖像處理顯示和記錄系統(tǒng),、樣品室樣品臺、電源系統(tǒng)和計算機(jī)控制系統(tǒng)等組成,。
場發(fā)射掃描電鏡的工作原理：
掃描電子顯微鏡是以能量為1—30kV間的電子束,，以光柵狀掃描方式照射到被分析試樣的表面上，利用入射電子和試樣表面物質(zhì)相互作用所產(chǎn)生的二次電子和背散射電子成像,，獲得試樣表面微觀組織結(jié)構(gòu)和形貌信息,。配置波譜儀和能譜儀,，利用所產(chǎn)生的X射線對試樣進(jìn)行定性和定量化學(xué)成分分析。
場發(fā)射掃描電鏡的應(yīng)用領(lǐng)域：
適用于納米材料精細(xì)形貌的觀察,，可薛利高質(zhì)量高分辨二次電子圖像,。該儀器配備的X射線能譜儀可對塊狀樣品做定性及半定量分析?？上驑悠肥页淙攵喾N氣體,，在低真空下仍能獲得優(yōu)于2nm的高分辨圖像；可向樣品室通入水蒸氣,，使含水,、含油及不導(dǎo)樣品可直接觀察；可在樣品室內(nèi)對樣品做加溫,、低溫處理,，對化學(xué)反應(yīng)過程進(jìn)行實時觀測。該設(shè)備適用于物理,、材料,、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體,、化學(xué)高分子,、地質(zhì)礦物、生物,、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的微觀研究和分析,。
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