場發(fā)射電鏡是電子顯微鏡的一種，是以場發(fā)射電子發(fā)射體發(fā)射電子,，并以電子束為光源,，在真空狀態(tài)下通過電磁透鏡控制電子束匯集成很小的束斑照射并透過樣品。由于電子的德布羅意波長非常短,，可以獲得樣品原子級微觀形貌,。其原理是利用二次電子或背散射電子成像，對樣品表面放大一定的倍數(shù)進(jìn)行形貌觀察,，同時利用電子激發(fā)出樣品表面的特征X射線來對微區(qū)的成分進(jìn)行定性定量分析,。具有電子束斑小、高分辨率,、穩(wěn)定性好等特點(diǎn),。
場發(fā)射電鏡有以下幾種用途：
1.納米材料基本特性分析：對有機(jī)、無機(jī),、納米材料進(jìn)行微觀形態(tài)研究,，獲得其表面形貌。利用TEM獲得材料整體形貌,，由高分辨像獲得晶面間距及以選區(qū)電子衍射像對材料進(jìn)行物相標(biāo)定,，得知其屬于立方晶系。
2.合金成分分析：反應(yīng)堆包殼材料特性研究,，在合金注入多種金屬元素，通過TEM進(jìn)行形貌及成分分析,，可明顯觀察到合金基體中析出相的不同形貌及分布,，通過EDS點(diǎn)掃描分析不同形貌析出相的成分信息。為了解區(qū)域內(nèi)合金各元素的分布情況,，可采用面掃描方式進(jìn)行分析,，獲得各元素在合金基體內(nèi)的分布情況。
3.其他用途：碳納米管,，石墨SEM形貌觀察,；LED熒光填充物進(jìn)行成分分析；粉末樣品的粒度分析測量,；金屬鍍層厚度測量,；金屬間化合物觀察與測量；斷口分析等等。
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