首頁 >> 公司動(dòng)態(tài) >> 展會(huì)預(yù)告|與您相約SEMICON CHINA 2023
SEMICON CHINA 2023
?上海新國際博覽中心 E2館2135展位
自1988年在上海舉辦以來,，SEMICON CHINA已成為中國首要的半導(dǎo)體行業(yè)盛事之一,，見證了中國半導(dǎo)體制造業(yè)茁壯成長，加速發(fā)展的歷史,。
SEMICON CHINA 2023是由中國電子商會(huì)和SEMI主辦的全球規(guī)模較大,、較具影響力的半導(dǎo)體盛會(huì)，本屆展會(huì)展覽面積達(dá)90000平米,，將有1100余家展商參展,，覆蓋芯片設(shè)計(jì),、制造、封測(cè),、設(shè)備,、材料、光伏,、顯示等全產(chǎn)業(yè)鏈,。
布魯克光譜
SEMICON CHINA 2023
時(shí)間：2023年6月29日-7月1日
地點(diǎn)：上海新國際博覽中心
展位號(hào)：E2館 E2135
本次大會(huì)，布魯克光譜將為您介紹材料質(zhì)量控制解決方案：
芯片分裝污染,、異物,、失效分析
顯示器件污染、異物分析
電路板異物,、失效分析
此外,，布魯克光譜提供半導(dǎo)體行業(yè)多應(yīng)用方向的解決方案：
常溫、低溫傅立葉變換光致發(fā)光系統(tǒng),，紅外低維材料表征：量子點(diǎn),、量子阱、超晶格,；
聲子光譜,、半導(dǎo)體材料帶隙，低維異質(zhì)結(jié)構(gòu)厚度以及電子特性研究,；
外延層厚度分析：同質(zhì)外延,，異質(zhì)外延，單層,，多層,；
紅外光電探測(cè)器器件光譜響應(yīng)表征：光電流譜；
紅外發(fā)光器件,、激光器等電致發(fā)光器件中心波長,、線寬、帶寬表征：ICL,，QCL,，VCSEL；
工業(yè)高純晶體硅質(zhì)量控制：間隙氧,，代位碳,，III_VI族雜質(zhì)元素分析；
光伏硅晶體質(zhì)量控制：間隙氧,，代位碳,，施主，受主元素含量；
切割前硅晶棒,、硅錠中氧含量軸向分布分析,；
高純鍺、化合物半導(dǎo)體中雜質(zhì)元素分析,。
傅立葉變換紅外顯微鏡
LUMOS II 是一款獨(dú)立的傅立葉變換紅外顯微鏡,，在失效分析、材料研究和顆粒分析方面非常出色,。它采用FPA技術(shù),，結(jié)構(gòu)緊湊、精確,，具有超快的化學(xué)成像功能,。生產(chǎn)電子產(chǎn)品時(shí)要用到各種類型的有機(jī)/無機(jī)材料。FTIR 光譜是一種通用技術(shù),，可為大多數(shù)樣品提供有價(jià)值的化學(xué)信息,。因此，F(xiàn)TIR 顯微技術(shù)對(duì)故障和根本原因分析有很大幫助,。
傅立葉變換紅外光譜儀
INVENIO非常適用于需要高靈敏度,、光譜或時(shí)間分辨率、穩(wěn)定性,、靈活性和可升級(jí)性的情景,，從而改善您在工業(yè)或研究應(yīng)用領(lǐng)域的日常分析體驗(yàn)。INVENIO可應(yīng)用在硅晶圓中氧和碳含量測(cè)定,；亞微米量級(jí)至毫米量級(jí)外延層層厚無損光學(xué)測(cè)試,、分析；近紅外光譜范圍的光致發(fā)光測(cè)量等,。
布魯克光譜與您相約SEMICON 2023
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