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產(chǎn)品優(yōu)勢

·全封閉式顯影,，避免霧氣擴(kuò)散到外部，污染環(huán)境,。

·外殼噴塑,，耐腐蝕，易清洗,。

·內(nèi)腔鍍特氟龍,，光滑，耐腐蝕,，易清洗,。

·內(nèi)置真空過濾器，防止液體吸入真空泵,。

·真空壓力可調(diào),，壓力值實時顯示,。

·液體流量可調(diào)，回吸可調(diào),。

產(chǎn)品參數(shù)

支持wafer尺寸：碎片至200mm（8"圓晶）

·轉(zhuǎn)速分辨率：±1 RPM

·旋涂速度：20-3000rpm（空載）

·旋涂加速度：10-10,000rpm/sec（空載）

·工藝時間設(shè)定： 0-3,000sec/step,，時間設(shè)置精度： 0.1sec

·該機(jī)型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機(jī)（1路洗衣液，1路純水,，1路氮氣）

·單步工藝及多步工藝可選,，內(nèi)置100組可編輯程序

·可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機(jī)或更大基片的顯影機(jī)。

設(shè)備配有一路顯影和一路水,、一路氣吹功能,，并且噴嘴位置可程控移動，實現(xiàn)自動顯影和清洗作業(yè),。