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產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
1.全封閉式顯影,,避免霧氣擴(kuò)散到外部,污染環(huán)境,。
2.外殼噴塑,,耐腐蝕,,易清洗。
3.內(nèi)腔鍍特氟龍,,光滑,,耐腐蝕,易清洗,。
4.內(nèi)置真空過(guò)濾器,,防止液體吸入真空泵。
5.真空壓力可調(diào),,壓力值實(shí)時(shí)顯示,。
6.液體流量可調(diào),回吸可調(diào),。
產(chǎn)品參數(shù)
支持wafer尺寸:碎片至200mm(8"圓晶)
1.轉(zhuǎn)速分辨率:±1 RPM
2.旋涂速度:20-3000rpm(空載)
3.旋涂加速度:10-10,000rpm/sec(空載)
4.工藝時(shí)間設(shè)定: 0-3,000sec/step,,時(shí)間設(shè)置精度: 0.1sec
5.該機(jī)型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機(jī)(1路洗衣液,1路純水,,1路氮?dú)猓?/span>
6.單步工藝及多步工藝可選,,內(nèi)置100組可編輯程序
7.可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機(jī)或更大基片的顯影機(jī)。
設(shè)備配有一路顯影和一路水,、一路氣吹功能,,并且噴嘴位置可程控移動(dòng),實(shí)現(xiàn)自動(dòng)顯影和清洗作業(yè),。
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