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產(chǎn)品優(yōu)勢

1.全封閉式顯影，避免霧氣擴散到外部,，污染環(huán)境,。

2.外殼噴塑，耐腐蝕,，易清洗,。

3.內(nèi)腔鍍特氟龍，光滑,，耐腐蝕,，易清洗。

4.內(nèi)置真空過濾器,，防止液體吸入真空泵,。

5.真空壓力可調(diào)，壓力值實時顯示,。

6.液體流量可調(diào),，回吸可調(diào)。

產(chǎn)品參數(shù)

支持wafer尺寸：碎片至200mm（8"圓晶）

1.轉(zhuǎn)速分辨率：±1 RPM

2.旋涂速度：20-3000rpm（空載）

3.旋涂加速度：10-10,000rpm/sec（空載）

4.工藝時間設(shè)定： 0-3,000sec/step,，時間設(shè)置精度： 0.1sec

5.該機型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機（1路洗衣液,，1路純水，1路氮氣）

6.單步工藝及多步工藝可選,，內(nèi)置100組可編輯程序

7.可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機或更大基片的顯影機,。

設(shè)備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能,，并且噴嘴位置可程控移動,，實現(xiàn)自動顯影和清洗作業(yè)。