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plasma去膠機去膠的影響因素有哪些,?

時間:2023/1/31閱讀:1187
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  我們大部分人都知道等離子有清洗活化的功能,今天我們來探討下plasma去膠機,。
  plasma去膠機反應(yīng)機理:在干法plasma去膠技術(shù)中,,氧是首要腐蝕氣體,。它在真空plasma去膠機反響室中受高頻及微波能量效果,電離發(fā)生氧離子,、游離態(tài)氧原子O*,、氧分子和電子等混合的等離子體.
  plasma去膠操作方法:將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向,推入真空室兩電極間,,抽真空到1.3Pa,,通入恰當(dāng)氧氣,堅持真空室壓力在1.3-13Pa,,加高頻功率,,在電極間發(fā)生淡紫色輝光放電,經(jīng)過調(diào)理功率,、流量等技術(shù)參數(shù),,可得不一樣去膠速率,當(dāng)膠膜去凈時,,輝光不見,。
  plasma去膠影響要素:
  1.頻率挑選:頻率越高,氧越易電離構(gòu)成等離子體,。頻率太高,,以致電子振幅比其平均自由程還短,則電子與氣體分子磕碰概率反而減少,,使電離率降低,。
  2.功率影響:關(guān)于必定量的氣體,功率大,,等離子體中的的活性粒子密度也大,,去膠速度也快;但當(dāng)功率增大到必定值,,反響所能耗費的活性離子到達(dá)飽滿,,功率再大,去膠速度則無顯著添加,。由于功率大,,基片溫度高,所以應(yīng)根據(jù)技術(shù)需求調(diào)理功率,。
  3.真空度的挑選:恰當(dāng)進(jìn)步真空度,,可使電子運動的平均自由程變大,因而從電場取得的能量就大,,有利電離,。別的當(dāng)氧氣流量必守時,真空度越高,則氧的相對份額就大,,發(fā)生的活性粒子濃度也就大,。但若真空度過高,活性粒子濃度反而會減小,。
  plasma去膠機的工作原理:
  氧plasma去膠是利用氧氣在微波發(fā)生器的作用下產(chǎn)生氧等離子體,,具有活性的氧等離子體與有機聚合物發(fā)生氧化反應(yīng),是的有機聚合物被氧化成水汽和二氧化碳等排除腔室,,從而達(dá)到去除光刻膠的目的,,這個過程我們有時候也稱之為灰化或者掃膠。氧plasma去膠相比于濕法去膠工藝更為簡單,、適應(yīng)性更好,,去膠過程純干法工藝,無液體或者有機溶劑參與,。當(dāng)然我們需要注意的是,這里并不是說氧plasma去膠工藝*好于濕法去膠,,同時也不是所有的光刻膠都適用于氧plasma去膠

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