您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,生物產(chǎn)業(yè),石油 |
|---|
產(chǎn)品分類品牌分類
-
美縫劑設(shè)備 臥式珠磨機(jī) 電池 多功能分散釜 行星強(qiáng)力分散機(jī) 強(qiáng)力分散機(jī) 攪拌罐 拉缸 食醋設(shè)備 制藥設(shè)備 蒸發(fā)設(shè)備 干燥設(shè)備 壓濾設(shè)備 反應(yīng)設(shè)備 分離設(shè)備 污水處理設(shè)備 酒廠 肉制品設(shè)備 分離機(jī) 乳品廠設(shè)備 化工廠設(shè)備 過濾機(jī) 濃縮罐 攪拌機(jī) 沖壓片機(jī) 混合機(jī) 烘干機(jī) 均質(zhì)機(jī) 制粒機(jī) 干燥機(jī) 農(nóng)藥廠設(shè)備 顏料廠 色漿廠 拌餡機(jī) 斬拌機(jī) 烘箱 稀配罐 包裝機(jī) 涂料機(jī)組 換熱器 乳化機(jī) 鹽廠設(shè)備 堿廠設(shè)備 木糖醇生產(chǎn)設(shè)備 化妝品 豆油生產(chǎn)設(shè)備 生物制藥 種子罐 濃縮提取設(shè)備 發(fā)酵設(shè)備 味精廠設(shè)備 酒精廠設(shè)備 奶粉廠設(shè)備 淀粉廠設(shè)備 有機(jī)肥廠設(shè)備 洗煤廠設(shè)備 制藥廠設(shè)備 飲料廠設(shè)備 油墨廠設(shè)備 涂料廠設(shè)備 油漆廠設(shè)備 不銹鋼混合機(jī) 飲料灌裝機(jī) 管束干燥機(jī) 不銹鋼攪拌罐 藥用壓片機(jī) 不銹鋼儲(chǔ)存罐 破碎機(jī) 臥螺離心機(jī) 噴霧干燥機(jī) 蒸發(fā)器 離心機(jī) 滾筒烘干機(jī) 夾層鍋 乳品發(fā)酵罐 冷凝器 玻璃鋼罐 耙式干燥機(jī) 削片機(jī) 雙錐回轉(zhuǎn)真空干燥機(jī) 超微粉碎機(jī) 萬能粉碎機(jī) 壓濾機(jī) 三輥研磨機(jī) 鍋爐 殺菌鍋 真石漆混合機(jī) 錐形混合機(jī) 捏合機(jī) 不銹鋼反應(yīng)釜 搪瓷反應(yīng)釜 分散機(jī) 臥式砂磨機(jī)
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
大量回收不銹鋼儲(chǔ)存罐
儲(chǔ)罐是長輸油氣管道輸送介質(zhì)的儲(chǔ)存容器。輸油管道首站的儲(chǔ)油罐用于收集,、儲(chǔ)存石油和保證管線輸油量的穩(wěn)定,，末站的儲(chǔ)油罐用于接收和儲(chǔ)備來油，并提供給用油單位,。輸氣管道末端門站的儲(chǔ)氣罐主要用于城市燃?xì)獾恼{(diào)峰,，正逐漸被地下儲(chǔ)氣庫和管道儲(chǔ)氣所代替。
大量回收不銹鋼儲(chǔ)存罐
優(yōu)點(diǎn)
內(nèi)浮盤浮于液面上,，使得液相沒有蒸發(fā)空間,，可以減少蒸發(fā)損失達(dá)85%~90%；此外,，通過浮盤阻隔了空氣與儲(chǔ)液,，在減少空氣污染的同時(shí)減少了火災(zāi)危險(xiǎn)發(fā)生的程度；后,，由于液面上沒有氣體空間,，減少了在運(yùn)輸過程中產(chǎn)生的振蕩，防止儲(chǔ)液對(duì)罐內(nèi)壁產(chǎn)生撞擊或內(nèi)壓力變大,，減輕罐頂和罐壁的腐蝕,，延長儲(chǔ)罐使用壽命。
4,、軸封采用衛(wèi)生級(jí)硬質(zhì)合金與碳化硅204平衡型機(jī)械密封,。耐磨耐壓。減速機(jī)選用進(jìn)口,，轉(zhuǎn)速為60-82轉(zhuǎn)/分,。 也可采用變頻器來調(diào)速。
強(qiáng)制循環(huán)結(jié)晶罐提高了傳熱系數(shù)與蒸發(fā)強(qiáng)度,，加快了結(jié)晶速度,。結(jié)晶罐概述 結(jié)晶罐（種子罐、發(fā)酵罐,、酶解罐）廣泛應(yīng)用于制藥,、精細(xì)化工、生物工程等行業(yè),，罐體與上下封頭（或錐形）均采用旋壓R角加工,，罐內(nèi)壁經(jīng)鏡面拋光處理，光潔度Ra≤0.4μm,無衛(wèi)生死角,，全封閉的設(shè)計(jì)確保物料始終處在無污染的狀態(tài)下混合,、發(fā)酵，設(shè)備配備空氣呼吸器,、清洗球,、衛(wèi)生人孔、視鏡,、視燈等裝置,。 制藥、精細(xì)化工,、生物制品發(fā)酵罐采用了無菌系統(tǒng),，避免和防止了空氣中微生物的污染，大大延長了您產(chǎn)品的保持期和產(chǎn)品的純正,。
5,、接口采用通用標(biāo)準(zhǔn)ISO標(biāo)準(zhǔn)快裝卡盤式，材料為進(jìn)口316L或304,，內(nèi)表面鏡面拋光Ra≤0.28μm,， 外表面亞光或鏡面拋光處理。
