旋涂是一種廣泛使用且用途廣泛的技術，用于將材料沉積到具有準確且可控的膜厚的基材上,，用于微觀或光譜研究,。旋涂利用溶液的向心力和表面張力來形成均勻的薄膜,，使其比其他薄膜涂層方法更快,。旋涂是研究和工業(yè)環(huán)境中批處理的理想選擇,。旋涂廣泛用于使用溶膠-凝膠前驅體在玻璃或單晶基板上對功能性氧化層進行微納加工,，可用于制造具有納米級厚度的均勻薄膜,。

MRC-實驗室設備

30 多年來，MRC 一直為全球 70 多個國家/地區(qū)開發(fā),、制造和供應實驗室設備,。自 2001 年以來，MRC 質量管理體系已通過 ISO 9001 正式認證,，符合質量要求,。我們在實驗室產品供應方面的專業(yè)知識得到了我們合格且經驗豐富的服務團隊的支持。

種類繁多的實驗室設備

MRC實驗室技術為研發(fā)中的眾多應用提供了廣泛的創(chuàng)新設備,。MRC 成熟的技術,，用于我們專門開發(fā)的加熱設備和溫度控制產品，例如用于混合,、振蕩,、生長、測試和破碎應用的加熱板、循環(huán)器,、浴槽和冷卻器,。MRC還憑借我們創(chuàng)新的振蕩培養(yǎng)箱、烤箱,、濕度室,、冷卻器、振蕩器,、均質機,、研磨機、冰箱,、旋轉蒸發(fā)器,、離心機、實驗室天平,，在世界市場上獲得了一定的行業(yè)地位,。

旋涂機

旋涂是一種廣泛使用且用途廣泛的技術，用于將材料沉積到具有準確且可控的膜厚的基材上,，用于微觀或光譜研究,。旋涂利用溶液的向心力和表面張力來形成均勻的薄膜，使其比其他薄膜涂層方法更快,。旋涂是研究和工業(yè)環(huán)境中批處理的理想選擇,。旋涂廣泛用于使用溶膠-凝膠前驅體在玻璃或單晶基板上對功能性氧化層進行微納加工，可用于制造具有納米級厚度的均勻薄膜,。

旋涂機如何工作,？

在旋涂中，當液體從基材的末端旋轉時,，旋轉會繼續(xù),，直到達到所需的膜厚。所施加的溶劑通常是揮發(fā)性的,，并同時蒸發(fā),。

MRC提供各種優(yōu)質的旋涂機供使用。所有旋涂機都是高質量的產品- 查看目錄,。

什么是旋涂,？

旋涂的方法經常用于表面上做薄涂層。在這種方法中,，每當物質和溶劑的溶液高速旋轉時,，在向心力和液體表面張力的結合下，就會形成均勻的涂層,。通過旋涂,，在剩余的溶劑蒸發(fā)后產生大約幾納米和幾微米厚的薄層,。

旋涂被廣泛使用，并有多種用途,。該工藝可用于覆蓋小至幾平方毫米的表面,，直至直徑為一米或更大的平板顯示器。

與其他方法相比,，旋涂的主要優(yōu)點是它能夠快速輕松地制造均勻的涂層,。該技術用于多個業(yè)務和技術領域。

工作原理分為幾個步驟：

1. 沉積：使用移液管將基質澆注到溶液上,。離心運動將溶液分布在整個基材中,，盡管基材處于動態(tài)或靜態(tài)旋涂中。

2. 旋轉：在以較低速度或快速展開步驟后,，基板達到適當的旋轉速度,。在此階段，大部分溶液現在從基材中排出,。一旦阻力平衡旋轉加速度并導致旋轉速度匹配,，流體就會變得水平。

3. 衍生：現在粘性力占主導地位,，流體開始變稀,。由于干涉效應，通常,，當液體被甩掉時,，薄膜的顏色會發(fā)生變化。顏色停止后,，薄膜幾乎干燥。

4. 蒸發(fā)：流體流出停止后,，發(fā)生溶劑蒸發(fā),。揮發(fā)性、蒸氣壓和環(huán)境條件是溶劑蒸發(fā)速率所依賴的幾個因素,。

旋涂的用途：

它用于涂覆具有以下特征的表面：

- 合成金屬

- 納米材料

- 有機半導體

- 光敏電阻

-絕緣 子

- 金屬和金屬氧化物前驅體

- 透明導電氧化物

其他幾種物質也用于旋涂,。

旋涂技術的類型：

1. 動態(tài)點膠旋涂技術：在應用過程中，使用移液器使用動態(tài)點膠旋涂布來分配一致數量的涂層,。物體旋轉,，直到達到必要的轉速。然后盡可能靠近基材中心施加整個涂層,。速度和離心力有助于保證旋涂的一致性,。通過此程序，可以同時涂覆整個涂層,。

2. 靜態(tài)點膠旋涂技術：一般來說,，特殊情況下需要將紡絲速度降低到動態(tài)點膠旋涂方法所需的速度以下,。在開始紡絲過程之前，應使用此程序將整個涂層基材涂覆到所需的材料上,。在將涂層涂覆到材料上后,，紡絲過程開始，通常比動態(tài)點膠方法慢,。

旋涂機 - 緊湊型真空吸盤
腔室尺寸 200mm 大樣品 10mm-100mm 速度范圍 100~9999rpm可調
加速速度 100~9999rpm/s
速度分辨率 1rpm
速度精度 < 鹵 5rpm 控制 5組可編程
控制,，每組5級
電機功率 無刷直流電機 75w
工作電壓 AC 110-220V， 50Hz
外形尺寸 250*210*200mm
包括： 真空泵