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試樣拋光：

試樣拋光的目的是為了除去試樣磨面上留下的磨痕,，得到似鏡面的表面,，為顯示組織做好準(zhǔn)備,。理想的拋光面應(yīng)是平滑光亮、無(wú)劃痕,、無(wú)浮雕,、無(wú)塑性變形層和不脫落非金屬夾雜物。

金相試樣的拋光方法按其作用本質(zhì)劃分,，常見(jiàn)的有一下幾種：

試樣拋光 ：機(jī)械拋光,、化學(xué)拋光、電解拋光,、綜合拋光（機(jī)械化學(xué)拋光,、機(jī)械電解拋光）

金相試樣終顯示前的品質(zhì)是由拋光品質(zhì)決定的，而拋光前試樣磨面表面磨制及產(chǎn)生變形層的情況又直接影響拋光品質(zhì),。因此在進(jìn)行拋光工作以前,，必須對(duì)磨面進(jìn)行檢查，如果在磨面上還留下有較深磨痕,，即使這些深磨痕為數(shù)極少,，在拋光過(guò)程中也是難于去除的。在這樣的情況下,，應(yīng)重新對(duì)試樣磨光,，使在磨面上只留下單一方向的均勻的細(xì)磨痕及較淺的變形層時(shí)，才能進(jìn)行拋光,。